有機金属堆積の英語

Ｓｉと酸素を含む絶縁膜を形成されたシリコン酸化膜上に、有機金属原料を使った化学気相堆積法により、金属酸化物膜を、前記金属酸化膜が堆積直後の状態において結晶質となるように堆積する。例文帳に追加

On a silicon oxide film obtained by the formation of an insulation film containing Si and oxygen, a metal oxide film is so deposited by a chemical-vapor-deposition method, using an organic-metal raw material that the metal oxide film becomes crystalline in the state obtained, immediately after the deposition. - 特許庁

ある種の有機金属前駆体を用いてＩＶ族金属含有フィルムを堆積させる方法も提供される。例文帳に追加

A method of depositing a group IV metal-containing film using a certain organic metal precursor is also disclosed. - 特許庁

金属−有機物化学蒸着（ＭＯＣＶＤ）チャンバの表面から金属堆積副生成物を洗浄するためのその場方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for cleaning metallic deposited by-products from the surface of a metal-organic matter chemical vapor depositing(MOCVD) chamber on the spot. - 特許庁

マスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜を容易に除去することができる真空蒸着装置を提供する。例文帳に追加

To provide a vacuum deposition device capable of easily removing an organic film or an organometallic film deposited on a masking plate. - 特許庁

有機金属前駆体と、シリコン、金属窒化物及び他の金属層などの基材上にコンフォーマルな金属含有膜を製造するための堆積方法を提供する。例文帳に追加

To provide an organometallic precursor and to provide a method for depositing in order to produce a conformal metal-containing film on a substrate such as silicon, a metal nitride and other metal layers using the precursor. - 特許庁

有機金属錯体原料１ａ、１ｂを気化させて基板２上に膜を堆積させる有機金属化学気相成長装置３において、有機金属錯体原料１ａ，１ｂ乃至気化した該有機金属錯体原料が接触する部分の全部又は一部を絶縁材料４により形成している。例文帳に追加

In the organometal chemical vapor deposition apparatus 3 for depositing a film on a substrate 2 by evaporating raw materials 1a and 1b of an organometallic complex, all or one part of the portion contacting with the raw materials 1a and 1b of the organometallic complex or the vaporized raw materials of the organometallic complex are formed of a insulating material 4. - 特許庁

タングステンリッチ層の堆積は、基板をハロゲンフリーの有機金属タングステン前駆物質にさらすことを含む。例文帳に追加

Deposition of the tungsten-rich layers involves exposing a substrate to a halogen-free organometallic tungsten precursor. - 特許庁

有機金属化学的気相成長法によるグレーディングＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜の堆積方法例文帳に追加

DEPOSITION METHOD OF GRADING PRXCA1-XMNO3 THIN FILMS BY METAL ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD - 特許庁