構造設計技術の英語

構造解析を利用して物体の設計を行う際に、物体の複雑な形状を表す形状要因に関しても適切な設計値を求めることができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide techniques capable of calculating appropriate designed values, with regard to the shape factors showing a complicated shape of the object when designed the object by means of a structure analysis. - 特許庁

二　絶縁体が二酸化けい素からなる集積回路の基板であって、シリコンオンインシュレータ構造を有するものの設計又は製造に係る技術（プログラムを除く。）例文帳に追加

(ii) The technology (excluding programs) pertaining to the design or manufacture of substrates of integrated circuits whose insulators are made of silicon dioxide and that have silicon-on-insulator structure.発音を聞く  - 日本法令外国語訳データベースシステム

リビングラジカル重合技術を利用し、分子構造が制御された分子設計幅の広い自己安定型水性エマルション組成物を、有機溶剤を使用することなく製造する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for producing a self-stabilized aqueous emulsion composition having controlled molecular structure and broad molecule designing freedom without using an organic solvent by using a living radical polymerization technique. - 特許庁

基板に形成される反射防止膜の膜設計において、反射防止膜による結像性能の低下を低減する膜構造を決定することができる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique capable of determining film structure for reducing worsening of image focusing performance due to an antireflection film, in film design of the antireflection film formed on a substrate. - 特許庁

昨今の製造技術の進展に伴い、より効率的なレイアウトを得るのに適した集積回路のレイアウト構造およびレイアウト設計方法を提供する。例文帳に追加

To provide an integrated circuit layout structure and an integrated circuit layout designing method suitable for obtaining the more efficient layout of an integrated circuit attendant on current development of a manufacturing technique. - 特許庁

建築物の設計段階において、簡易な計算処理で、床面の変形量を評価して、より精細に床の性能や構造を評価するための技術を提案する。例文帳に追加

To propose a technology for evaluating the performance or structure of a floor more minutely by evaluating the amount of deformation of a floor face by simple calculation processing in the design stage of a building. - 特許庁

垂直に積み重ねられた単一基板搬送チャンバ２２０、２２２、２２４の構造は、当該技術の従来の状態、デュアルスロット二基板設計に比べてサイズが小さくなり且つ処理能力が高くなることに寄与する。例文帳に追加

The structure of the vertically stacked single substrate transferring chambers 220, 222, and 224 contributes to reduced size and greater throughput as compared with conventional state of the art, dual slot dual substrate designs. - 特許庁

多層配線技術において、ビアの均一な加工精度が得られる電源配線構造およびその配線設計方法ならびに、ビアの粗密に起因した不良箇所を短時間に特定する評価方法を提供する。例文帳に追加

To provide a power supply wiring structure in which the mean working precision of vias can be acquired and its wiring design method, and an evaluation method for specifying defective parts resulted from the roughness/fineness of the vias in a short time in a multi-layer wiring technology. - 特許庁