汚染機構の英語

露光装置内の機構の汚染を低減することができる基板処理技術を提供する。例文帳に追加

To provide substrate processing technology capable of reducing a contamination on a mechanism in a lithography apparatus. - 特許庁

露光処理に伴う機構の汚染を低減することができる基板処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a substrate processing apparatus capable of reducing contamination of its mechanism attended with exposure processing. - 特許庁

露光装置内のステージ等の機構の汚染を低減することができる基板処理技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique capable of reducing contamination in a mechanism such as a stage in an exposure device. - 特許庁

シートフィルムを保持するフィルム保持機構に付着する汚染物質を低減させてシートフィルムへの汚染物質の付着を低減することができるシートフィルム保持機構の洗浄装置を提供する。例文帳に追加

To provide a cleaning apparatus for automatically cleaning a sheet film holder so as to minimize contaminants from the sheet film holder attaching to a sheet film. - 特許庁

同時に動的浄化機構１０が働いて利用者の受信用秘密鍵を用いて暗号化浄化情報を復号し、その浄化情報に基づいて汚染プログラムの汚染された部分が実行される直前に浄化部１６において汚染を除去され、実行される。例文帳に追加

At the same time, enciphering and purifying information is decoded by using the reception secret key of the user by the work of a dynamic purifying mechanism 10 and a contamination is removed in a purifying part 16 just before the contaminated part of the contamination program is executed, based on the purifying information and the programs are executed. - 特許庁

一例で、プラントまたはシステムは、汚染物質を含む流入水流を受け取り、結果の第１流出水流から汚染物質の少なくとも第１部分を分離するように動作する膜濾過機構を含む。例文帳に追加

In one instance, a plant or a system includes a membrane filtration mechanism operable to receive an influent water stream containing a contaminant and to separate at least a first portion of the contaminant from a resulting first effluent water stream. - 特許庁

回路機構間の微細寸法で汚染された物品と水および酸化材料を含む反応性クリーニング流体を接触させて汚染材料を除去する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method to remove polluting materials by letting goods which have been polluted in microscopic dimensions among circuit arrangements, contact with a reactant cleaning fluid containing water and oxidization materials. - 特許庁

これにより、この下降位置にてノズルを停止することにより、洗浄機構１０９内にて汚染領域２０３のみ、有効に洗浄され、汚染領域以外の部分洗浄されることが回避される。例文帳に追加

By stopping the nozzle at the position, only the area 203 of contamination is cleaned effectively in the mechanism 109, and the portions other than the area of contamination are prevented from being cleaned. - 特許庁