異形成術の英語

基板に塗布液を塗布して所定のパターンを形成するパターン形成技術において、異形基板に効率よくパターン形成を行うことのできる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technique in which patterns can be formed on an irregular-shaped substrate in a pattern forming technique for forming a prescribed pattern by applying an application liquid on the substrate. - 特許庁

光反射層２２２は画像パターン状に設けられており、このような画像パターン状光反射層２２２の形成技術は、ＯＶＤ層形成技術とは異なる技術であるため、これら両技術を併用した磁気記録媒体は、その改竄・偽造が極めて困難となる。例文帳に追加

The light-reflecting layer 222 is formed in an image pattern state, and because techniques for forming the light-reflecting layer 222 in an image pattern state are different from techniques for forming an OVD layer, the magnetic recording medium using both of the techniques is extremely difficult for alteration and counterfeit. - 特許庁

回転子に形成された溝の異物が、回転子とステータとの間に溝外に排出されることを抑制する技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology which inhibits foreign objects in a groove formed in a rotor from being discharged between the rotor and a stator from the groove. - 特許庁

又、半導体製造技術による画素１１０と有機的な化学処理によるＤＮＡプローブ１６１が互いに異なる面に形成される。例文帳に追加

The pixel 110 due to semiconductor manufacturing technique and a DNA probe 161 due to organic chemical treatment are formed on mutually different surfaces. - 特許庁

マークを形成している蛍光特性の異なる複数の蛍光体物質の種類を比較的簡単な構成で検出できる技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology for detecting the kinds of a plurality of phosphor substances forming a mark and having different fluorescent characteristics by a relatively simple configuration. - 特許庁

ＩＣウエハは、キャップウエハとは異なる技術によって製作され、これによりハイブリッドのウエハレベルパッケージを形成する。例文帳に追加

The IC wafer is fabricated by a technique different from a technique for the cap wafer, so that a hybrid wafer level package is formed. - 特許庁

種々の異なるめっき技術およびターミネーション材料が、主題の自己決定めっきターミネーションの形成に使用することができる。例文帳に追加

Various different plating techniques and termination materials can be used for forming a self-determined plated termination in question. - 特許庁

各結像光学系のデフォーカス量の差異が画像に与える影響を抑制して、良好な画像形成を実現可能とする技術を提供する。例文帳に追加

To provide a technology for achieving sufficient image forming by suppressing influence on an image by the difference in defocus amount between imaging optical systems. - 特許庁