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膜応力構造の英語

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英訳・英語 stressed skin construction


日英・英日専門用語辞書での「膜応力構造」の英訳

膜応力構造

stressed-skin construction

「膜応力構造」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 128



例文

残留応力を解放する応力解放構造13は、本体11を囲む。例文帳に追加

The stress releasing structure 13 for releasing a membrane residual stress surrounds the body 11. - 特許庁

応力を用いて三次元MEMS構造を製造する方法の提供。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a three-dimensional MEMS structure. - 特許庁

応力補償構造体は、少なくとも基板、第1の被及び第2の被を具える。例文帳に追加

The structure of thermal stress compensation at least comprises a substrate, a first coating film and a second coating film. - 特許庁

基板に薄を堆積する際の薄応力を求め、引き続きライン構造に係る応力を同定する精度の良い方法を提供する。例文帳に追加

To provide an accurate method of determining stress of a thin film in depositing the thin film on a substrate, and sequentially identifying the stress applied to a line structure. - 特許庁

上層36は、下層35の圧縮応力と同程度の引張応力を有しており、下層35及び上層36からなる薄構造体Aは全体として弱い引張応力を有するように調整されている。例文帳に追加

The upper layer film 36 is provided with tensile stress comparable with compressive stress of the lower layer film 35, and the thin film structure A composed of the lower layer film 35 and the upper layer film 36 is regulated so as to have a weak tensile stress as a whole. - 特許庁

第1の誘電体群110の各低屈折率111を、引張応力を有するMgF_2 と、圧縮応力を有するSiO_2 を接合した2層構造にすることで、応力を緩和する。例文帳に追加

A two-layer structure obtained by joining an MgF_2 film having tensile stress and an SiO_2 film having compressive stress is provided to each low-refractive-index film 111 in the first dielectric film group 110 to relieve the internal stress of the film. - 特許庁

例文

フリップチップ用のパッド部の段差部上のアンダーバリアメタル(UBM)による応力低減構造として、段差部に応力が発生しにくい応力設定、および構造として段差の抑制、絶縁の収縮抑制を行い低応力構造とする。例文帳に追加

To provide a stress reducing structure by an under barrier metal (UBM) on a step part of a pad part for a flip-chip, which is a stress lowering structure for setting stress in order to prevent stress on the step part, suppressing a step as a structure, and suppressing contraction of an insulation film. - 特許庁

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「膜応力構造」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 128



例文

かかる応力により相転移(8)は結晶構造が相転移するため、体積変化が生じる。例文帳に追加

Since phase transition of crystal structure takes place in the phase transition film 8 by such a stress, variation of volume takes place. - 特許庁

機械的応力が制御された弱い引張応力を持ち、かつ、導通化された薄構造体を形成するための方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming a thin film structure having weak tensile stress controlled in mechanical stress and making an electrical continuity. - 特許庁

特に、犠牲13は、応力が保護14より小さく、構造体15が可動部を有する場合、該可動部の機械強度よりも弱い。例文帳に追加

Especially, the sacrificing film 13 is smaller in mechanical strength than a movable part when the structure 15 includes the movable part because the film stress is smaller than that of the protective film 14. - 特許庁

柱状構造20は、成中及び/又は成後のヘテロエピタキシャル40にかかる応力を緩和する応力緩和層として機能することができる。例文帳に追加

The columnar structure film 20 can be functioned as a stress relieving layer relieving stress on the heteroepitaxial film 40 during depositing and/or after depositing. - 特許庁

保護32は、第1の保護32aとして成され、圧縮応力を発生させる厚20nmのSiNと、第2の保護32bとして成され、引っ張り応力を発生させる厚20nmのSiO_2 との2層の積層構造として形成されている。例文帳に追加

The protective film 32 has an SiN film of 20 nm thick for generating a compressive stress as a first protective film 32a and an SiO2 film of 20 nm thick for generating a tensile stress as a second protective film 32b in the form of a two-layer laminate structure. - 特許庁

制御された結晶構造を用いた、ドーパント及び多層シリコンの使用による多結晶シリコン及び周囲層の応力の調節例文帳に追加

DOPANT USING CONTROLLED CRYSTAL STRUCTURE, POLYCRYSTALLINE SILICON FILM USING MULTI-LAYER SILICON FILM, AND ADJUSTMENT OF STRESS OF AMBIENT LAYER - 特許庁

粒子衝突による損傷から保護し、かつ低応力な保護を形成した保護付きマイクロシステム構造体を提供する。例文帳に追加

To provide a micro-system structure with protective film, protecting from damage due to collision of particles and having a low-stress protective film. - 特許庁

例文

本発明のアクチュエータ(13)は、内部に生じた応力に起因して結晶構造が相転移し、歪みを生じる相転移(8)と、逆圧電効果により圧電歪みを生じ、相転移(8)に応力を与える圧電体(7)との積層構造を有する。例文帳に追加

The actuator 13 has a multiplayer structure of a phase transition film 8 in which a strain is induced through phase transition of crystal structure caused by a stress generated in the film, and a piezoelectric film 7 generating a piezoelectric strain through reverse piezoelectric effect and applying a stress to the phase transition film 8. - 特許庁

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