臨界寸法の英語

走査電子顕微鏡法および臨界寸法測定機器のための電子ビーム線量制御例文帳に追加

ELECTRON BEAM DOSE CONTROL FOR SCANNING ELECTRON MICROSCOPY AND CRITICAL DIMENSION MEASUREMENT EQUIPMENT - 特許庁

同位置でのポリマー堆積とエッチングによりマスクの等効臨界寸法を減少する方法例文帳に追加

METHOD FOR REDUCING ISO-EFFICIENCY CRITICAL DIMENSION FOR MASK BY POLYMER DEPOSITION AND ETCHING IN THE SAME POSITION - 特許庁

比較的小さな臨界寸法を持つ構成部材を含む集積回路の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR FABRICATING INTEGRATED CIRCUIT INCLUDING COMPOSITIONAL MEMBER HAVING RELATIVELY SMALL CRITICAL DIMENSIONS - 特許庁

この方法により、基板全体に渡る臨界寸法（ＣＤ）の一様性が改善される。例文帳に追加

By this method, the uniformity of the critical size (CD) over the whole substrate is improved. - 特許庁

上記方法の場合には、集積回路は、必要な、比較的小さな、臨界寸法を持つ回路構成部材を含む。例文帳に追加

An integrated circuit includes a circuit composition member having relatively small necessary critical dimensions. - 特許庁

臨界寸法が第１基準値より小さい第２基準値あるいはそれ以下である時、補助パターンをメインパターン上に付加する。例文帳に追加

When the critical dimensions are a second reference value smaller than the first reference value or below the value, auxiliary patterns 302 are added to the main patterns 300. - 特許庁

超臨界流体を用いた現像において、パターンの倒れなどが発生することなく、かつ、精度良く寸法を制御できるようにする。例文帳に追加

To provide a supercritical development method capable of controlling the size of a pattern with high accuracy without causing a fall of the pattern in the development using a supercritical fluid. - 特許庁

投影パターンにおける臨界寸法プロファイルを改善するリソグラフィ装置、およびデバイス製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a lithography device and a device manufacturing method for improving a critical size profile in a projection pattern. - 特許庁