酸化硼素の英語

制御された濃度の酸化硼素蒸気を用いる炭化珪素繊維の製造法例文帳に追加

PRODUCTION OF SILICON CARBIDE FIBER BY USE OF BORON OXIDE VAPOR OF CONTROLLED CONCENTRATION - 特許庁

また、硼素を含む廃液中にマグネシウム合金とマグネシウム塩類を投入し、得られる水酸化マグネシウムと硼素との複合体から得られるマグネシウムと硼素の複合酸化物も、製鋼スラグの粉塵化抑止剤として利用することができる。例文帳に追加

A multiple oxide of magnesium and the boron obtained from a composite material of magnesium hydroxide and boron by charging a magnesium alloy and magnesium salts in the waste liquid containing boron is also used as the inhibitor for the dusting of the steel making slag. - 特許庁

硼素を含む実施例１〜３の炭素材料の酸化消耗量の方が硼素を含まない比較例１の炭素材料の酸化消耗量よりも小さいことがわかる。例文帳に追加

The oxidatively consumed amount of a carbon material containing boron in examples 1-3 is smaller than that of the carbon material containing no boron in comparison 1. - 特許庁

０．２〜７．５質量％の酸化ストロンチウムと０．８質量％以下（０は含まない）の酸化硼素とを含み、二硼化チタン及び窒化硼素を主成分とする相対密度が９０％以上のセラミックス。例文帳に追加

The ceramic contains 0.2 to 7.5 mass% strontium oxide and ≤0.8 mass% (not including 0%) boron oxide, comprises titanium diborate and boron nitride as main components and has ≥90% relative density. - 特許庁

本発明は酸化亜鉛（ＺｎＯ）粉末と窒化硼素（ＢＮ）粉末とが焼結されてなる酸化亜鉛系焼結体ターゲットである。例文帳に追加

In the zinc oxide-type sintered compact target, zinc oxide (ZnO) powder and boron nitride (BN) powder are sintered. - 特許庁

窒化硼素粉末を５〜３０質量％含有するスラリーであって、窒化硼素粉末が、粉末Ｘ線回折による黒鉛化指数が３〜３０、酸化硼素含有率が０．５〜５質量％、比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上、平均粒径が１０μｍ以下、最大粒径が４０μｍ以下であることを特徴とする窒化硼素含有スラリーである。例文帳に追加

The slurry comprises 5-30 mass% boron nitride powder, wherein the boron nitride powder has the graphitization index by the powder X-ray diffraction of 3-30, the boron oxide content of 0.5-5 mass%, the specific surface area of ≥20 m^2/g, the mean grain size of ≤10 μm, and the maximum grain size of ≤40 μm. - 特許庁

リチウム、マンガン、アルミニウム及び／又はマグネシウム、硼素及び酸素を含んでなるリチウムーマンガン系複合酸化物を製造する際に、硼素源として硼酸リチウムを使用する。例文帳に追加

In the manufacture of the lithium-manganese-based compound oxide containing lithium, manganese, aluminum and/or magnesium, boron and oxygen, lithium borate is used as a boron source. - 特許庁

化合物半導体単結晶の製造に用いられる縦型の熱分解窒化硼素（ＰＢＮ）製容器１ｂは、溶融酸化硼素の液滴２ａが８０度以上１４０度未満の範囲内の接触角（θ）を生じる内壁を有する。例文帳に追加

A vertical vessel 1b, made of pyrolytic boron nitride (PBN) and used for manufacturing the compound semiconductor single crystal, has an inner wall with which a droplet 2a of molten boron oxide forms a contact angle within a range of ≥80 and <140°. - 特許庁