32酸化物の英語

（ｃ）熱酸化処理により、不純物拡散領域３０上に膜厚の厚いシリコン酸化膜３２を形成する。例文帳に追加

(c) A thick silicon oxide film 32 is formed on the impurity diffused region 30 in a thermal oxidation process. - 特許庁

透明機能膜３における第１金属酸化物層３１及び第２金属酸化物層３２はＺｎＯ系金属酸化物からなり，一方金属層３３はＡｇ，Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄのいずれか１種以上の金属からなる。例文帳に追加

The first and second metal oxide layers 31, 32 of the transparent function film comprise ZnO type metal oxide and the metal layer 33 comprises either one of Ag, Au, Pt and Pd. - 特許庁

スペーサ表面の少なくとも一部は、クロム酸化物を含有したコート層３２により被覆されている。例文帳に追加

At least a part of the spacer surface is coated with a coat layer 32 containing chromium oxide. - 特許庁

ダンパ３２の内部に酸素及び二酸化炭素を濃度の高い方から濃度の低い方へ透過させ、炭化水素、窒素酸化物、硫黄酸化物及び微小固体成分を遮断する機能を有する透明の選択分離材を収納する。例文帳に追加

A transparent selectively separating material having a function for permeating oxygen and carbon dioxide from a high concentration side to a low concentration side to cut off hydrocarbon, nitrogen oxide, sulfur oxide and fine solid component from each other is housed in the damper 32. - 特許庁

下部ＩＴＯ透明電極膜１２の上に、酸化発色層を構成するニッケル酸化物膜３２、固体電解質層を構成する酸化タンタル膜１６、還元発色層を構成する酸化タングステン・酸化チタン混合膜３４、上部電極膜を構成する上部ＩＴＯ透明電極膜２０が順次積層成膜されている。例文帳に追加

On the lower ITO transparent film 12, a nickel oxide film 32 constituting an oxidation coloring layer, a tantalum oxide film 16 constituting a solid-state electrolyte layer, a mixture film 34 of tungsten oxide and titanium oxide constituting a reduction coloring layer and an upper ITO transparent electrode film 20 constituting an upper electrode film are deposited and laminated sequentially. - 特許庁

シリコン酸化膜は、ポリシラン化合物を含有する塗布膜３２を基体３１上に形成した後、塗布膜を不活性雰囲気又は還元性雰囲気中で第１加熱処理及び／又は紫外光を含む光照射を行い、シリコン酸化膜前駆体３３を形成し、次に、シリコン酸化膜前駆体を酸化雰囲気中で酸化処理することによって形成される。例文帳に追加

The silicon oxide film is formed by forming polysilane-containing coating film 32 on base 31, subjecting the coating film to a first heat treatment and/or an irradiation with light containing ultraviolet light in an inactive atmosphere or reducing atmosphere to obtain silicon oxide film precursor 33, and oxidizing the silicon oxide film precursor in an oxidative atmosphere. - 特許庁

サブストレート１の上に第一の酸化物層４を設け、その上に下側電極及び上側電極３１、３３及びこれらの間に析出した金属酸化物含有コンデンサー材料層３２を有するコンデンサーを形成させ、コンデンサーの形成の前に、第一の酸化物層４を、プラズマドープ法の使用下に、第一の酸化物層中で水素拡散バリア７Ａを形成するバリア物質をドープする。例文帳に追加

A first oxide layer 4 is provided on a substrate 1, a capacitor having a metal oxide containing capacitor material layer 32 separated on a downside electrode and upside electrodes 31, 33 is formed thereon, and the first oxide layer 4 is doped prior to forming the capacitor, and a barrier substance forming a hydrogen diffusion barrier 7A is doped in the first oxide layer under the use of a plasma doping method. - 特許庁

外皮３の内層３１と中間層３３との間には、過酸化水素を吸収し得る物質よりなる過酸化水素吸収物質層１７が設けられている。例文帳に追加

A hydrogen peroxide absorption substance layer 17 made of a substance which can absorb the hydrogen peroxide is provided between the layer 31 and the layer 32 of the skin 3. - 特許庁