Clean chambersとは 意味・読み方・使い方

Supply of a clean gas to the first gas holder 26 is made through multi-stage orifices (first and second vertical grooves 31, 32) separated in peripheral direction and through the chambers S1, S2 arranged in multi-stages.例文帳に追加

第１ガス溜め26へのガスの供給を周方向に離間した多段のオリフィス（第１、第２の縦溝31、32）を通じて多段に配置したチャンバS1、S2を通じて第１ガス溜め26にガスを供給する。 - 特許庁

In the clean four-cycle engine with the booster, one of three combustion chambers in the engine is a cylinder which compresses air without feeding fuel, to drive a booster device while using exhaust air for reducing the concentration of other exhaust gas.例文帳に追加

エンジン内の３本の燃焼室の１本を燃料を送らず空気を圧縮するシリンダーとし、排出する空気で他の排気ガスを薄め、加給装置を駆動する、以上を特徴とする、クリーンな加給機付き４サイクルエンジン。 - 特許庁

This plasma cleaning equipment is provided with a plurality of openable/closable chambers 2 and cleaning means 4, 5, 28, 29, 31, and 33 which generate a plasma in each chamber 2 and clean substrates housed in each chamber with the plasma.例文帳に追加

開閉可能な複数個のチャンバ２と、各チャンバ２内にプラズマを発生させ、このプラズマにより各チャンバ２内の基板に対して洗浄処理を行う洗浄手段４、５、２８、２９、３１、３３とを備えたことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a purge valve and a stocker that can decrease a loss of a clean gas at the utmost that is sent to each storage chamber for keeping the cleanness of a stocker's respective chambers and decrease storage costs as well for semiconductor wafers and the like, and can also prevent a nitrogen gas leaking or flowing into a clean room.例文帳に追加

保管装置の各保管室のクリーン度を維持するために必要な各保管室へ流すクリーンガスのロスを極力低減させることにより半導体ウエハー等の保管コストをも低減し、またクリーンルーム内への窒素ガスの漏れ流入も極力抑えることができるパージバルブおよび保管装置をを提供する。 - 特許庁

The apparatus for treating contaminants 1 is provided with a carriage 4 carrying an object to be treated a heating part A having heating chambers 21, 22 heating the object loaded on the carriage, and an after-treatment part B applying after-treatment to the object after heating and is divided and isolated into a dirty side and a clean side.例文帳に追加

汚染物質処理設備１は、処理対象物を搬送する台車４と、台車４に搭載された処理対象物に加熱処理を施す加熱室２１、２２を有する加熱部Ａと、加熱処理後の処理対象物に後処理を施す後処理部Ｂと、を備え、ダーティ側とクリーン側とに隔離されている。 - 特許庁

When a semiconductor manufacturing system, having a loader chamber 101, an unloader chamber 102, and a plurality of processing chambers 103-106 for depositing a film, and the like, disposed around a carrying chamber 107 is used, a TFT can be processed without being exposing to the atmosphere between each processing step, and each coating interface constituting the TFT can be kept in clean state.例文帳に追加

搬送室１０７を中心にローダ室１０１、アンローダ室１０２、成膜等の複数の処理室１０３〜１０６を有する半導体作製装置を用いることにより各処理工程の間をクリーンルーム大気に曝すことなく処理することができ、ＴＦＴを構成する各被膜界面を清浄に保つことが可能となる。 - 特許庁