Direct exposure methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a direct exposure method and a direct exposure device of low cost and high-precision which will not cause positional deviations of an exposure pattern, resulting from yawing of a stage on which a substrate to be exposed is placed.例文帳に追加

露光対象基板を載せるステージのヨーイングに起因する露光パターンの位置ズレを発生しない、低コストかつ高精度の直接露光方法および直接露光装置を実現する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method in which direct writing can be performed at a high speed without using a photomask and low cost can be achieved.例文帳に追加

フォトマスクを使用しないで高速に直接描画ができ、低コスト化を実現できる露光装置及び露光方法を提供する。 - 特許庁

DATA PREPARATION METHOD, DATA VERIFICATION METHOD, DATA DISPLAY METHOD AND EXPOSURE SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM DIRECT WRITING例文帳に追加

荷電粒子線直描データ作成方法、荷電粒子線直描データ検証方法、荷電粒子線直描データ表示方法及び露光装置 - 特許庁

To provide a maskless exposure apparatus that achieves maskless direct exposure on a general-use photosensitive resin with a high throughput and no defect, and to provide an exposure method and a method for manufacturing a wiring board.例文帳に追加

汎用の感光性樹脂に対するマスクレスでの直接露光を高スループットかつ無欠陥で実現するマスクレス露光装置及びその露光方法並びに配線基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide an exposure method without causing any resolution failure on a face of an exposure object in a direct exposure device that forms a desired exposure pattern on a face of an exposure object by irradiating the face of the exposure object with light rays through a plurality of spatial light modulation elements, and to provide a computer program therefor.例文帳に追加

複数の空間光変調素子によって描画対象物の面上に光を照射することで描画対象物の面上に所望の描画パターンを形成する直接描画装置において、描画対象物の面上に解像不良が生じない描画方法およびコンピュータプログラムを実現する。 - 特許庁

To attain a method and an apparatus for automatic correction for obtaining a correction amount for correcting the deviation of the mounting position of each exposure head in a direct exposure device comprising a plurality of exposure heads in the direction orthogonal to the relative movement direction of an exposure object wherein the exposure head has a two dimensional array of exposure elements inclined to the relative movement direction of the exposure object.例文帳に追加

露光対象物の相対移動方向に対して傾斜して２次元配列された露光素子を有する露光ヘッドを、相対移動方向に直交する方向に複数備える直接露光装置に対して、露光ヘッドの取付け位置のズレを補正するための補正量を得る自動補正方法および自動補正装置を実現する。 - 特許庁

To provide an exposure pattern data inspection apparatus, method and program which when a printed circuit board is produced by a direct drawing system, enable exposure pattern data for use in the direct drawing process to be accurately inspected in a shorter period of time than before.例文帳に追加

プリント基板を直描方式により製造する場合において、直描工程で使用する露光パターンデータを従来よりも短時間で正確に検査することのできる露光パターンデータ検査装置、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LASER DIRECT DRAWING EXPOSURE, PHOTOSENSITIVE ELEMENT USING THE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING PRINTED WIRING BOARD例文帳に追加

レーザ直接描画露光用感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 - 特許庁