| 意味 | 例文 (117件) |
Dm-2とは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「Dm-2」の意味 |
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Dm-2
| fly | 遺伝子名 | Dm-2 |
| 同義語(エイリアス) | Wnt-2; dWnt-2; CG1916; Dwnt-2; DWnt2; D-wnt-2; Protein Wnt-2 precursor; Wnt oncogene analog 2; DWnt-2; Wnt2; dWnt2 | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P28465 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:35975 | |
| その他のDBのID | FlyBase:FBgn0004360 |
| fly | 遺伝子名 | Dm[[2]] |
| 同義語(エイリアス) | DmO; Dm | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P08928 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:33782 | |
| その他のDBのID | FlyBase:FBgn0002525 |
| fly | 遺伝子名 | DM2 |
| 同義語(エイリアス) | HEX-C; CG8094; Fk: Fructokinase; Hk; Hex-3; Hex-C; Hexokinase-3; HEX-3; Hex-c; Fructokinase; Hexokinase C; CT22069 | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:44008 | |
| その他のDBのID | FlyBase:FBgn0001187 |
| fly | 遺伝子名 | Dm2 |
| 同義語(エイリアス) | MDR50; Multi drug resistance 50; CG8523; Dm3; Mdr50 | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:36582 | |
| その他のDBのID | FlyBase:FBgn0010241 |
| human | 遺伝子名 | DM2 |
| 同義語(エイリアス) | ZCCHC22; CNBP1; Zinc finger protein 9; CNBP; ZNF9; Cellular nucleic acid-binding protein; PROMM; RNF163; zinc finger protein 9 | |
| SWISS-PROTのID | SWISS-PROT:P62633 | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:7555 | |
| その他のDBのID | HGNC:13164 |
| human | 遺伝子名 | DM2 |
| 同義語(エイリアス) | immunoglobulin heavy diversity 1-14; IGHD114; IGHD1-14 | |
| SWISS-PROTのID | --- | |
| EntrezGeneのID | EntrezGene:28508 | |
| その他のDBのID | HGNC:5483 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「Dm-2」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 117件
Further the electrogalvanizing treatment is preferably performed with the current density of ≤50 A/dm^2.例文帳に追加
また、50A/dm^2以下の電流密度で電気亜鉛めっき処理することが好ましい。 - 特許庁
The pickling prior to plating is performed by electrolytic pickling by indirect energizing in an energizing quantity of ≤60 C/dm^2.例文帳に追加
めっき前酸洗を、60C/dm^2 以下の通電量の間接通電による電解酸洗により実施する。 - 特許庁
Successively, a quenching and a tempering, are applied, and thereafter, a pickling is performed with an alternating current electrolysis having ≥1A/dm^2 current density.例文帳に追加
次いで、焼き入れ、焼き戻しを行い、その後、電流密度が1A/dm^2以上の交番電解で酸洗処理する。 - 特許庁
An electrogalvanizing treatment is performed with a current density of <100 A/dm^2, by using a steel sheet as cathode.例文帳に追加
そして、電流密度100A/dm^2未満で、鋼板を陰極として電気亜鉛めっき処理する。 - 特許庁
The ball screw has the ratio Da/dm of a ball diameter Da to a pitch diameter dm set in a range of 0.05-0.2 and the ratio dm/d of the pitch diameter dm to the diameter of a screw shaft 2 set in a range of 1.005-1.06.例文帳に追加
ボールねじ1は、ボール直径Daと、ピッチ径dmとの比Da/dmを0.05〜0.2の範囲に設定し、ピッチ径dmとねじ軸2の径との比dm/dを1.005〜1.06に設定している。 - 特許庁
Therein, a hydrogen concentration in an environment from the annealing process to the retention process is 2 to 40 volume% and a dew point DM of the environment in the annealing process and a dew point DL of the environment in the retention process satisfy the following relation: DL≤-30°C and DM-DL≥10°C.例文帳に追加
ここで、焼鈍処理から保持処理における雰囲気中水素濃度は2〜40体積%、かつ焼鈍処理における雰囲気の露点DMと保持処理における雰囲気の露点DLとは次の関係を満たす: DL≦-30℃、かつDM-DL≧10℃。 - 特許庁
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「Dm-2」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 117件
Preferably, negative electrode current density is 0.5 A/dm^2-50 A/dm^2, the temperature of plating bath is 10°C-60°C, the pH of the plating bath is 4.5-6.5, and plating period is 1 minute-30 minutes.例文帳に追加
また、陰極電流密度は0.5〜50A/dm^2、めっき浴の温度は10〜60℃、めっき浴のpHは4.5〜6.5、めっき時間は1〜30分であることが好ましい。 - 特許庁
At this time, pulse current having an average current density of relatively low (0.5A/dm^2) and having an intermittently high current density of (5A/dm^2) is caused to flow.例文帳に追加
このとき、平均電流密度が比較的低く(0.5A/dm^2)、断続的(間欠的)に高電流密度(5A/dm^2)となるパルス電流を流すようにする。 - 特許庁
Specifically, the copper foil preferably has the roughening fine alloy-particle layer comprising copper of 5-13 mg/dm^2-cobalt of 6-13 mg/dm^2-nickel of 5-12 mg/dm^2, provided on the surface to be bonded with the resin substrate of the copper foil.例文帳に追加
具体的には銅箔の樹脂基板と接着される接着面に5〜15mg/dm^2銅−6〜13mg/dm^2コバルト−5〜12mg/dm^2ニッケルとからなる合金微細粗化粒子層を設けてなると良い。 - 特許庁
The method includes zinc-electroplating a steel sheet at a current density of ≤150 A/dm^2 using a sulfuric acidic plating bath that contains 0.05-0.3 mol/l magnesium sulfate and has a zinc concentration of ≥1.0 mol/l.例文帳に追加
硫酸マグネシウムを0.05 〜 0.3 mol/l含有し、亜鉛濃度が1.0mol/l以上である、硫酸酸性のめっき浴を用いて、150A/dm^2以下の電流密度で電気亜鉛めっき処理する。 - 特許庁
The coating weight of silver in each silver halide emulsion unit is ≤11 g/dm2 and that of the gelatin vehicle in each silver halide emulsion unit is ≤11 mg/dm2.例文帳に追加
各々のハロゲン化銀乳剤ユニットにおける銀の付着量は11mg/dm^2 以下であり、各々のハロゲン化銀乳剤ユニットにおけるゼラチン状ベヒクルの付着量は11mg/dm^2以下である。 - 特許庁
The copper alloy layer contains 50-500 μg/dm^2 nickel and 30-300 μg/dm^2 molybdenum.例文帳に追加
本発明において、銅合金層に含有されるニッケルは50μg/dm^2から500μg/dm^2であり、モリブデンは30μg/dm^2から300μg/dm^^2である。 - 特許庁
In the anodizing step, the current density can be controlled to 0.025-0.25 A/dm^2.例文帳に追加
陽極酸化工程は、0.025〜0.25A/dm^2の電流密度で行うことができる。 - 特許庁
A mailing service supplier terminal 2 receives orders from the DM orderer terminal 1.例文帳に追加
メーリングサービス業者端末2はDM発注業者端末1からの注文を受ける。 - 特許庁
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