Glass lasersとは 意味・読み方・使い方

An organic dry film used for the photoresist or holography is applied at about 100 to 500 nm on an optical glass master disk and the optical glass master disk is exposed by using CW lasers, such as from 257 nmAr times waves, 266 nmYAG quaternary harmonics, 351 nmAr lasers and 413 nmKr lasers.例文帳に追加

フォトレジストやホログラフィに用いられる有機ドライフィルムを光ディスクガラス原盤に約１００ｎｍから５００ｎｍ塗布し、２５７ｎｍＡｒ倍波、２６６ｎｍＹＡＧ第四高調波、３５１ｎｍＡｒレーザ、４１３ｎｍＫｒレーザなどからのＣＷレーザを用いて光ディスク原盤を露光する。 - 特許庁

The glass substrates improved in the workability of the glass substrates themselves by arbitrarily controlling the bubble quantity in the glass are prepared and are irradiated with pulse lasers plural items in working the glass substrates, by which the working shapes to the glass substrates are improved.例文帳に追加

ガラスの中に任意に気泡量を制御することにより基板自身の加工性を向上させたガラス基板を用意し、ガラス基板を加工する際パルスレーザーを複数回照射することで、ガラス基板に対する加工形状の向上を果たすものである。 - 特許庁

When a scribing line formed on the front surface of the glass sheet by a glass cutter wheel is irradiated with lasers, both sides of the scribing line are irradiated with several pairs of beam spots and these beam spot themselves are moved in synchronization with or follow up to the movement of a glass cutter preceding thereto.例文帳に追加

ガラスカッターホイールによりガラス板表面に形成したスクライブ線に対してレーザを照射する際に、スクライブ線の両側部に複数対のビームスポットにして照射し、そのビームスポット自身を先行するガラスカッターの移動に同期もしくは追従して移動させる。 - 特許庁

To make glass substrates which are dealable with mass production process step and have a low dielectric constant and small dialectic loss applicable as substrates for high-frequency circuits and more particularly high-frequency circuit for microwaves and millimetric wave bands in a method for working the glass substrates by using lasers.例文帳に追加

レーザーを用いたガラス基板の加工方法において、量産工程に対応可能であり、誘電率が低く、誘電損失も小さいガラス基板を高周波回路、特にマイクロ波やミリ波帯用の高周波回路の基板として適用させ得るようにすること。 - 特許庁

In the method of producing colored glass, glass subjected to ion exchange by dipping into a molten salt comprising a silver ion-containing salt is heat-treated under an oxidizing atmosphere, and is irradiated with at least one or more kinds of pulse lasers in which pulse width is ≤10 pico sec.例文帳に追加

銀イオン含有塩を含む溶融塩に浸漬することによりイオン交換されたガラスを、酸化雰囲気下において熱処理し、パルス幅が１０ピコ秒以下である少なくとも１種のパルスレーザーを照射することによって着色ガラスを製造する方法。 - 特許庁

To provide a blue fluorescent glass which, when irradiated with an intense ultraviolet radiation such as excimer lasers, does not change in a fluorescent color, is not broken, and exhibits a high efficiency of conversion from an ultraviolet radiation into a blue light and high fluorescent intensity.例文帳に追加

エキシマレーザーなどの強い紫外光の照射によって、蛍光色が変化せず、またガラスが破損せず、さらに紫外光から青色光への変換効率が高く、蛍光強度が大きい青色蛍光ガラスを提供すること。 - 特許庁

To provide a glass film which has a preferable laser workability for a laser having a large energy, particularly for YAG lasers having wavelengths of 266 nm and 355 nm, or the like, further, hardly breaks in various kinds of processes after laser working and contributes to the thinning and the reduction of weight of various kinds of instruments.例文帳に追加

大きなエネルギーを持つレーザー、特に波長２６６ｎｍや３５５ｎｍのＹＡＧレーザー等に対し、良好なレーザー加工性を有し、且つレーザー加工後の各種工程で破損し難いガラスフィルムを創案し、各種機器の薄型化、軽量化に貢献すること。 - 特許庁