Halo structureとは 意味・読み方・使い方

HALO STRUCTURE USED IN TRANSISTOR WITH FEATURE OF REDUCED SIZE例文帳に追加

縮小された寸法を特徴とするトランジスタに使用するハロー構造 - 特許庁

To provide a phase object observation device which does not cause a halo and by which an image with contrast in accordance with phase structure can be observed.例文帳に追加

ハローを生じず、しかも、位相構造に応じたコンラストのついた像を観察することのできる位相物体観察装置を提供する。 - 特許庁

Concretely, the invention is used so that an implanted object of a halo structure is formed in a field-effect transistor which features a reduced size.例文帳に追加

具体的には、本発明は、縮小された寸法を特徴とする電界効果トランジスタにハロー構造の注入物を形成するのに使用される。 - 特許庁

Further, a LDD spacer 540 is formed on the side wall of the select gate 506, and a drain diffusion region has a LDD structure with a HALO region 536.例文帳に追加

更には選択ゲート５０６の側壁にＬＤＤスペーサ５４０が形成され、ドレイン拡散領域はＨＡＬＯ領域５３６を有するＬＤＤ構造となっている。 - 特許庁

The offset printer 1 has a base material, an optional intermediate layer, a coated image forming member 3 including an outer layer covering the intermediate layer with a halo elastomer having a pendant chain covalently bonding to the skeletal structure of a halo elastomer and an optional heating member 13 incidental to the offset printing device 1.例文帳に追加

オフセット印刷装置１は、基材、任意選択の中間層、およびハロエラストマーの骨格に共有結合するペンダント鎖を有するハロエラストマーによるその上を覆う外層を含むコートされた画像形成部材３、さらにオフセット印刷装置１に付随する任意選択の加熱部材１３を有する。 - 特許庁

This technique utilizes a damascene gate process to obtain a MOSFET structure wherein the thickness of an oxide on source/drain regions is not related to the thickness of a gate oxide and a disposable spacer technique to form a super halo doping profile.例文帳に追加

この技法は、ソース／ドレイン領域上の酸化物の厚さがゲート酸化物の厚さとは無関係なＭＯＳＦＥＴ構造を得るためのダマシン・ゲート・プロセスと、スーパー・ハロ・ドーピング・プロフィルを形成するためのディスポーザブル・スペーサ技法とを利用する。 - 特許庁

Schottky barrier contacts (301, 302) are used for source and/or drain connection within the context of a MOSFET device structure, to eliminate a requirement for halo/pocket implant and shallow source/drain extension to control short channel effects.例文帳に追加

本発明は、ＭＩＳＦＥＥＤデバイス構造のコンテクスト内でソース接続および／またはドレイン接続のためにショットキーバリア接触（３０１、３０２）を利用して、短チャネル効果を制御するためにハロー／ポケット注入および浅いソース／ドレイン拡張部の必要性を除去する。 - 特許庁