Ion Plating Systemとは 意味・読み方・使い方

The ion plating method is pref. a method using a pressure gradient type DC discharge system as a plasma source.例文帳に追加

また前記イオンプレーティング法が、プラズマ源に圧力勾配型直流放電方式を用いた方法であることが好ましい。 - 特許庁

To provide an AIP(arc discharge ion plating) system using a rod-like evaporation source, capable of attaining high productivity by efficient handling of works.例文帳に追加

ワークの効率的なハンドリングを行うことで極めて高い生産性を実現できる、ロッド状蒸発源を採用したＡＩＰ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a low core loss grain-oriented silicon steel sheet and its production method with which the uniform TiN base film in the grain-oriented silicon steel sheet is realized with an arc discharging system ion-plating.例文帳に追加

一方向性珪素鋼板における均質なＴｉＮ 系被膜の形成を、アーク放電方式イオンプレーティングにて実現するための方途について提案する。 - 特許庁

An ion plating system 100 has a substrate holder 28, a crucible 41 and a plasma generation part 50 for evaporating and ionizing a vapor deposition material, a bias electrode 63, and a bias supply 61.例文帳に追加

イオンプレーティング装置１００には、基板ホルダ２８と蒸着物質を蒸発してイオン化する坩堝４１及びプラズマ生成部５０と、バイアス電極６３と、バイアス電源６１とが設けられる。 - 特許庁

The composite material is obtained that causes an ion conduction membrane to be deformed, by joining conductive cloth (preferably having elasticity), which is made conductive by plating a metal on or injecting metal complex into the cloth as electrodes, on both sides of the ion conductive membrane (an ion exchange membrane or a membrane impregnated with an ionic liquid) comprising a fluorine system resin and the like, and by giving the potential difference.例文帳に追加

フッ素系樹脂等からなるイオン伝導膜（イオン交換膜またはイオン液体を含浸させた膜）の両面に、電極として布帛に金属をめっき又は金属錯体注入により導電化した導電性布帛（好ましくは伸縮性を有するもの）を接合させて、電位差を与えることでイオン伝導膜に変形を生じせしめる複合材料を得る。 - 特許庁

This method comprises: a previous process where a chromium layer is deposited on the basis material in a magnetron sputtering system; and an after process where the temperature of the basis material is held at 100-200°C and a CrN layer is deposited on the above Cr layer in an arc discharge ion plating system.例文帳に追加

本発明は、マグネトロンスパッタ装置において基材上にクロム層を形成する前行程と、アーク式イオンプレーティング装置において基材の温度を１００〜２００℃に保持して前記Ｃｒ層の上にＣｒＮ層を形成する後行程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an AIP (Arc Ion Plating) system which can satisfy the requirements to an evacuation system to each other between a step requiring initial high evacuation and deposition step, both steps substantially contradicting each other with one turbo molecular pump, and which obtains an exhaust velocity desirable to the deposition step.例文帳に追加

１台のターボ分子ポンプで、本質的に相矛盾する初期の高真空排気を必要とする工程と成膜工程との間での真空排気システムへの要求事項を相互に満足させ得るとともに、成膜工程に対して望ましい排気速度を得るＡＩＰ装置を提供する。 - 特許庁

The regeneration treatment method of an electroless nickel plating solution is characterized in removing the impurity metal ions in the electroless nickel plating solution by contacting the electroless nickel plating solution including at least one kind of the impurity metal ion selected from the group consisting of zinc ions, aluminum ions, and iron ions with micro capsules involving at least one kind of the extractant selected from the group consisting of phosphate system extractants, carboxylic acid system extractants, and chelate system extractants.例文帳に追加

本発明は、亜鉛イオン、アルミニウムイオン及び鉄イオンからなる群から選択される少なくとも１種の不純物金属イオンを含む無電解ニッケルめっき液を、リン酸系抽出剤、カルボン酸系抽出剤及びキレート系抽出剤からなる群から選択される少なくとも１種の抽出剤を内包させたマイクロカプセルと接触させて、該無電解ニッケルめっき液中の不純物金属イオンを除去することを特徴とする無電解ニッケルめっき液の再生処理方法に関する。 - 特許庁