意味 | 例文 (81件) |
M(3)hとは 意味・読み方・使い方
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遺伝子名称シソーラスでの「M(3)h」の意味 |
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M(3)h
fly | 遺伝子名 | M(3)h |
同義語(エイリアス) | Minute(3)h of Schultz; M(3)66A; M(3)h | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:49358 | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0005562 |
fly | 遺伝子名 | M(3)h |
同義語(エイリアス) | M(3)y; M(3)69E; M[33d30]; M(3)33d; Minute (3) 69E; M(3)v; M(3)33j; M(3)6; M | |
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:48523 | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0002616 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「M(3)h」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 81件
Chemical precursors of the formula (F3C)4-m-nMXmRn are preferred, wherein M is Si or Ge, X is halogen, R is H or D, m is 0, 1, 2 or 3, and n is 0, 1, 2 or 3, with the provision that (m+n)≤3.例文帳に追加
化学式(F_3C)_4-m-nMX_mR_nの化学前駆体が好適であり、ここでMはSi若しくはGeであり、Xはハロゲンであり、RはH若しくはDであり、mは0、1、2若しくは3であり、nは0、1、2若しくは3であり、条件(m+n)≦3を有する。 - 特許庁
The verifier investigates whether or not a condition of H(m, r)≤h(s) mod n<H(m, r)+2^2|n|/3 is fulfilled and when the condition is fulfilled, the signature is decided as a success.例文帳に追加
検証者は H(m,r)<h(s)mod n<H(m,r)+2^2|n|/3 (ここでA^BはA^B を表わす)を満すかを調べ、満たせば合格とする。 - 特許庁
The verifier investigates whether or not a condition of H(m, T)≤h(s) mod n<H(m, T)+2^2|n|/3 (A B represents AB) is fulfilled and when the condition is fulfilled, the signature is decided as a success.例文帳に追加
検証者は H(m,T)<h(s)mod n<H(m,T)+2^2|n|/3 (ここでA^BはA^B を表わす) を満すかを調べ、満たせば合格とする。 - 特許庁
A dodging processing part 1 for applying digital dodging processing to input image data generates a three-level filter image by applying space filter processing to image data reduced into three levels by H, M and L size reducing parts 6, 7 and 8 by H, M and L space filter parts 9, 10 and 11.例文帳に追加
入力画像データに対してデジタル覆い焼き処理を施す覆い焼き処理部1において、H,M,Lサイズ縮小部6,7,8で3レベルに縮小された画像データに対し、H,M,L空間フィルタ部9,10,11で空間フィルタ処理を施して3レベルのフィルタ画像を生成する。 - 特許庁
An OR circuit 25 is the OR circuit of (m) inputs and when any one of redundant word select signals RD1-RDm becomes 'H' level, a word line selection inhibit signal RDE is outputted at 'H' level, for example, to a row decoder.例文帳に追加
オア回路25は、m入力の論理和回路であり、冗長ワード選択信号RD1〜RDmの内1つでも「H」レベルとなった場合、ワード線選択禁止信号RDEが例えば「H」レベルで行デコーダ3へ出力される。 - 特許庁
(In the formulae, Ph is a benzene ring such as phenyl, phenylene or the like m≥0, n≥0, m+n≥1, P≥0).例文帳に追加
Ph(OH)-[HC(Ph)-(Ph)OH)]_m[CH_2-(Ph)-CH_2-(Ph)OH]_n-H………………(2) Ph(OH)-[CH_2-(Ph)-(Ph)-CH_2-(Ph)OH)]_p-CH_2-(Ph)-(Ph)-CH_2-(Ph)OH)……(3) (式中Phは,フェニル、フェニレン等ベンゼン核残基であり、m≧0、n≧0で、m+n≧1、p≧0である) - 特許庁
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「M(3)h」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 81件
The formula (1) is -[C(H,F)_2]_n-X-(CF_2)_m-SO_3H when X is O or a direct bond and n, m are respectively integers of 1 or more and 3 or less.例文帳に追加
−[C(H、F)_2]_n−X−(CF_2)_m−SO_3H ・・・(1) 但し、Xは、O又は直接結合、n、mは、それぞれ、1以上3以下の整数。 - 特許庁
Then, a snow index SI is calculated for each mesh by using a formula SI=H×V^m×K^n (1≤m≤3, 1≤n≤3).例文帳に追加
1≦m≦3、1≦n≦3の範囲でSI=H×V^m×K^nの式により、各メッシュ2毎に雪指標SIを算出する。 - 特許庁
Further, the metallic material melting part 14 in the lower die 3, is constituted of a material having ≤250 kcal/(m.h.°C) thermal conductivity.例文帳に追加
さらに、下型3の金属材料溶解部14を、熱伝導率が250kcal/(m・h ・℃) 以下の材料にて構成する。 - 特許庁
Q=W /(H×D×Vc×ρ)...(A) wherein, W: the cooling water quantity (liter/min) of the secondary cooling, H: the width (m) of the cast slab, D: the thickness (m) of the cast slab, Vc: casting speed (m/min) and ρ: the density (kg/m3) of the molten steel.例文帳に追加
Q=W/(H×D×Vc×ρ)・・・(A)、 ここで、W:二次冷却の冷却水量(リットル/分)、H:鋳片の幅(m)、D:鋳片の厚さ(m)、Vc:鋳造速度(m/分)、ρ:溶鋼の密度(kg/m^3 ) - 特許庁
A signer 1 calculates a signature S=h-(y-m)(x) from a message m (<y) and transmits it with the message to a verifier 3.例文帳に追加
署名者1は、メッセージm(<y)から、署名S=h_(y−m)(x)を計算して、メッセージとともに検証者3に送信する。 - 特許庁
H_mXY_12O_40 (1) (X: either of P and Si; Y: either of W and Mo; when X=P, m=3; when X=Si, m=4).例文帳に追加
H_mXY_12O_40 (1)(X:P、Siのいずれか、Y:W、Moのいずれか m:X=Pの場合はm=3 X=Siの場合はm=4) - 特許庁
An aligner E synchronously moves a mask M and a substrate P from an accelerating section H 1 to a decelerating section H 4 through a setting section H 2 and a normal section H 3, and during the movement, transfers the image of a pattern formed on the mask M to the substrate P.例文帳に追加
露光装置Eは、マスクM及び基板Pを、加速区間H1、整定区間H2、定常区間H3、減速区間H4の順に同期移動させ、この移動中にマスクMに形成されたパターンの像を基板P上に転写する。 - 特許庁
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