「M(3)h」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

An OR circuit 25 is the OR circuit of (m) inputs and when any one of redundant word select signals RD1-RDm becomes 'H' level, a word line selection inhibit signal RDE is outputted at 'H' level, for example, to a row decoder.例文帳に追加

オア回路25は、m入力の論理和回路であり、冗長ワード選択信号RD1〜RDmの内1つでも「H」レベルとなった場合、ワード線選択禁止信号RDEが例えば「H」レベルで行デコーダ3へ出力される。 - 特許庁

(In the formulae, Ph is a benzene ring such as phenyl, phenylene or the like m≥0, n≥0, m+n≥1, P≥0).例文帳に追加

Ph(OH)-[HC(Ph)-(Ph)OH)]_m[CH_2-(Ph)-CH_2-(Ph)OH]_n-H………………(2) Ph(OH)-[CH_2-(Ph)-(Ph)-CH_2-(Ph)OH)]_p-CH_2-(Ph)-(Ph)-CH_2-(Ph)OH)……(3) （式中Phは,フェニル、フェニレン等ベンゼン核残基であり、ｍ≧０、ｎ≧０で、ｍ＋ｎ≧１、ｐ≧０である） - 特許庁

The formula (1) is -[C(H,F)_2]_n-X-(CF_2)_m-SO_3H when X is O or a direct bond and n, m are respectively integers of 1 or more and 3 or less.例文帳に追加

−[Ｃ(Ｈ、Ｆ)_2]_n−Ｘ−(ＣＦ_2)_m−ＳＯ_3Ｈ ・・・（１） 但し、Ｘは、Ｏ又は直接結合、ｎ、ｍは、それぞれ、１以上３以下の整数。 - 特許庁

H≥1 mm, Vc≤17 mm^3, Ra≥1.0×10^-3(m K/W).例文帳に追加

即ち、Ｈ≧１ｍｍ、Ｖｃ≦１７ｍｍ^３、Ｒａ≧１．０×１０^−３（ｍ・Ｋ／Ｗ）と規定する。 - 特許庁

Then, a snow index SI is calculated for each mesh by using a formula SI=H×V^m×K^n (1≤m≤3, 1≤n≤3).例文帳に追加

１≦ｍ≦３、１≦ｎ≦３の範囲でＳＩ＝Ｈ×Ｖ^ｍ×Ｋ^ｎの式により、各メッシュ２毎に雪指標ＳＩを算出する。 - 特許庁

Further, the metallic material melting part 14 in the lower die 3, is constituted of a material having ≤250 kcal/(m.h.°C) thermal conductivity.例文帳に追加

さらに、下型３の金属材料溶解部14を、熱伝導率が250kcal/(m・h ・℃) 以下の材料にて構成する。 - 特許庁

Q=W /(H×D×Vc×ρ)...(A) wherein, W: the cooling water quantity (liter/min) of the secondary cooling, H: the width (m) of the cast slab, D: the thickness (m) of the cast slab, Vc: casting speed (m/min) and ρ: the density (kg/m3) of the molten steel.例文帳に追加

Ｑ＝Ｗ／（Ｈ×Ｄ×Ｖｃ×ρ）・・・（Ａ）、 ここで、Ｗ：二次冷却の冷却水量（リットル/分）、Ｈ：鋳片の幅（ｍ）、Ｄ：鋳片の厚さ（ｍ）、Ｖc：鋳造速度（ｍ/分）、ρ：溶鋼の密度（ｋｇ/ｍ^3 ） - 特許庁

A signer 1 calculates a signature S=h-(y-m)(x) from a message m (<y) and transmits it with the message to a verifier 3.例文帳に追加

署名者１は、メッセージｍ（＜ｙ）から、署名Ｓ＝ｈ_(ｙ−ｍ)(ｘ)を計算して、メッセージとともに検証者３に送信する。 - 特許庁

H_mXY_12O_40 (1) (X: either of P and Si; Y: either of W and Mo; when X=P, m=3; when X=Si, m=4).例文帳に追加

Ｈ_mＸＹ_12Ｏ_40 （１）（Ｘ：Ｐ、Ｓｉのいずれか、Ｙ：Ｗ、Ｍｏのいずれか ｍ：Ｘ＝Ｐの場合はｍ＝３ Ｘ＝Ｓｉの場合はｍ＝４） - 特許庁

An aligner E synchronously moves a mask M and a substrate P from an accelerating section H 1 to a decelerating section H 4 through a setting section H 2 and a normal section H 3, and during the movement, transfers the image of a pattern formed on the mask M to the substrate P.例文帳に追加

露光装置Ｅは、マスクＭ及び基板Ｐを、加速区間Ｈ１、整定区間Ｈ２、定常区間Ｈ３、減速区間Ｈ４の順に同期移動させ、この移動中にマスクＭに形成されたパターンの像を基板Ｐ上に転写する。 - 特許庁

Here, Q is agitation gas volume (Nm^3/min); T is temperature of the heating medium (K); V is the volume of the heating medium bath (m^3); ρ is a density of the heating medium (kg/m^3); and H is the depth of agitation gas blowing depth (m).例文帳に追加

ε＝６．１８（ＱＴ／Ｖ）｛２．３ｌｏｇ（（１０３３０＋ρＨ）／１０３３０）＋（１−２９８／Ｔ）｝≧４Ｑ：撹拌ガス量（Ｎｍ^３／ｍｉｎ）、Ｔ：熱媒温度（Ｋ）、Ｖ：熱媒浴体積（ｍ^３）、ρ：熱媒密度（ｋｇ／ｍ^３）、Ｈ：撹拌ガス吹き込み深さ（ｍ） - 特許庁

When the absolute humidity H is lower than 15 g/m^3 in the step S2, the process is ended without carrying out reverse rotation of the photoreceptor drums 1a to 1d.例文帳に追加

ステップＳ２で絶対湿度Ｈが１５ｇ／ｍ^3未満である場合は感光体ドラム１ａ〜１ｄの逆回転を行わずに処理を終了する。 - 特許庁

After image formation is ended, whether an absolute humidity H is equal to a predetermined value (15 g/m^3) or more is determined.例文帳に追加

画像形成が終了すると、絶対湿度Ｈが所定値（ここでは１５ｇ／ｍ^3）以上であるか否かが判断される。 - 特許庁

In the general formula (1), R^1 denotes H or C_nH_2n+1, n denotes an integer of 3 or below, R^2 denotes H or C_nH_2n+1 and n and m^1 each denote an integer of 3 or below.例文帳に追加

［化１］一般式（１）式中、Ｒ^１は、Ｈ、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１を表し、ｎは、３以下の整数であり、Ｒ^２は、Ｈ、Ｃ_ｎＨ_２ｎ＋１を表し、ｎ、ｍ^１は、３以下の整数を表す。 - 特許庁

The member 51 for reducing vibration is also arranged to satisfy a relation 1/(E^2.2×H^3 <1.4×10^-12, where E (unit: N/m^2) is the Young's modulus and H (unit: cm) is the thickness of the member 51 for reducing vibration.例文帳に追加

また、振動低減部材５１を、該振動低減部材５１のヤング率をＥ（単位：Ｎ／ｍ^2）とし、厚さをＨ（単位：ｍ）としたとき、１／（Ｅ^2.2×Ｈ^3）＜１．４×１０^-12を満たすように構成する。 - 特許庁

(R^1-R^4 are each independently H, a 1-4C alkyl group. n is an integer ≥2, m is 2 or 3).例文帳に追加

（Ｒ^１〜Ｒ^４は各々独立してＨ又はＣ１〜Ｃ４のアルキル基。ｎは２以上の整数、ｍは２又は３。） - 特許庁

A digital filter (H(Z))4 generates a plurality number m(an integer) of output candidates from the output of an adder 3.例文帳に追加

デジタルフィルタ（Ｈ（Ｚ））４は、加算器３の出力から複数ｍ（整数）の出力候補を生成する。 - 特許庁

A member formed of an expanded graphite arranged between the heating element H and the heat sink has a bulk density smaller than 1.0 Mg/m^3.例文帳に追加

発熱体Ｈと放熱体との間に配設される、膨張黒鉛によって形成された部材であって、かさ密度が、1.0Ｍｇ／ｍ^３より小さい。 - 特許庁

Conditions for bringing the hydrocarbon oil into contact with the adsorbent are preferably 10-150°C temperature, ≤3 m/h linear velocity and ≥5 min residence time.例文帳に追加

炭化水素油と吸着剤とを接触させる条件が、温度１０℃〜１５０℃、線速度３ｍ／時間以下、滞留時間５分以上であることが好ましい。 - 特許庁

A treatment with the retinoic acid, e.g. at ≥10-5 M concentration for 3 h can be cited as the treatment with the retinoic acid.例文帳に追加

レチノイン酸による処理としては、例えば１０^-5Ｍ以上の濃度のレチノイン酸での３時間の処理を挙げることができる。 - 特許庁

Furthermore, the coercive force H_CJ of [A1a] is set to 0.90-1.05 MA/m, (BH)_max thereof is set to 300 kJ/m^3 or more and oxygen quantity is set to 0.3 wt% or less, thus making a more appropriate anisotropic rare earth/iron-based bond magnet.例文帳に追加

更に、［Ａ１ａ］の保磁力Ｈ_CJが０．９０〜１．０５ＭＡ／ｍ、（ＢＨ）_maxが３００ｋＪ／ｍ^3以上、且つ酸素量０．３重量％以下として、より、好適な異方性希土類−鉄系ボンド磁石となる。 - 特許庁

The mandrel removing apparatus for removing the mandrel M from the vulcanized hose H in which the mandrel M is inserted is equipped with a take-up means 1 having a rotatable and contractible take-up drum 13 for taking up the hose H and a liquid pressure push-out means 3 for pushing the mandrel M out of the hose H taken up by the take-up drum 13 by liquid pressure.例文帳に追加

マンドレルＭを内挿した加硫済のホースＨからマンドレルＭを除去する装置であり、ホースＨを巻き取る回転及び拡縮可能な巻取りドラム１３を有する巻取り手段１と、巻取りドラム１３に巻き取られたホースＨからマンドレルＭを液圧により押し出す液圧押出手段３を備えている。 - 特許庁

In the formula (I), R^1 expresses H, OH, an alkyl or an alkoxy; R^2 and R^3 express each H or an alkyl; n expresses 1-20 integer; m expresses 1-3 integer.例文帳に追加

（式中のＲ^１は水素原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基。Ｒ^２、Ｒ^３は水素原子、アルキル基。ｎは１〜２０、ｍは１〜３の整数を示す。） - 特許庁

In the formula, R represents H or F, m represents an integer of 3 to 16, Y represents S, SO_2, SO or O, L^1 represents a bivalent group having three or more carbon atoms and X represents H or a cation.例文帳に追加

式中、ＲはＨまたはＦを表し、ｍは３〜１６のいずれかの整数を表し、ＹはＳ、ＳＯ_2、ＳＯまたはＯを表し、Ｌ^1は構成する炭素原子が３以上の２価の基を表し、ＸはＨまたはカチオンを表す。 - 特許庁

Envelope waveforms of high range (H), middle range (M) and low range (L) are plotted by being painted and subsequently the outline of the envelope waveform H of the high range and vertical lines parallel with the amplitude axis of the high range are plotted with lines at intervals of 3 pixels.例文帳に追加

高域（Ｈ）、中域（Ｍ）、低域（Ｌ）のエンベロープ波形を塗り潰しで描画し、次に、高域のエンベロープ波形Ｈの輪郭線と振幅軸に平行な縦線を３ピクセル間隔で線描画する。 - 特許庁

The compounds are represented by formula (I) [wherein R^1 and R^2 are each H or alkyl; R^3, R^4 and R^5 are each H or X; m is 1-4; n is 1-3; p is 1 or 2; A is -Ar^1; and Ar^1 is (substituted) phenyl].例文帳に追加

式（Ｉ）：［式中：Ｒ^１、Ｒ^２は、Ｈ、アルキル；Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、Ｈ、Ｘ；ｍは１〜４；ｎは１〜３；ｐは１,２；Ａは−Ａｒ^１；Ａｒ^１は（置換）フェニル］で示される化合物。 - 特許庁

From the pump delivery amount Q (t), a previously specified refrigerant head H (m), and a specific weight γ (kg/m3) of the refrigerant, an energy saving amount W (t)=γ*Q (t)*H...... (2) is calculated.例文帳に追加

ポンプ送出量Ｑ（ｔ）と、予め特定される冷媒ヘッドＨ（ｍ）、冷媒の比重量γ（ｋｇ／ｍ^3 ）とから、 省エネルギー量Ｗ（ｔ）＝γ＊Ｑ（ｔ）＊Ｈ……（２） を算出する。 - 特許庁

A constitution element (M) except for the nitrogen of a nitride film, reaction gas (M-N-H gas), constituted of nitrogen and hydrogen and ammonia, are used and the reaction gas is generated in a mixing chamber 503 installed on the front side of a reaction chamber 3.例文帳に追加

窒化膜の窒素以外の構成元素（Ｍ）と窒素と水素で構成される反応ガス（Ｍ−Ｎ−Ｈガス）とアンモニアを用い、反応室３の手前に設けた混合室５０３で前記反応ガスを生成する - 特許庁

The fluorine-based surfactant comprises a fluorine-based compound (A) having 2-4 same F(CF_2)_2m(CH_2)_2- groups (wherein m expresses 2 or 3) and -COOM (wherein M expresses H, ammonium or an alkali metal) in the molecule.例文帳に追加

１分子中に同一の２個〜４個のF(CF_2)_2m(CH_2)_２-（式中、ｍは２又は３である。）と、-COOM（式中、Ｍは水素原子、アンモニウムまたはアルカリ金属である。）を有するフッ素系化合物（Ａ）からなることを特徴とするフッ素系界面活性剤。 - 特許庁

In the formula, A represents H or OH; R_1 represents a divalent group; E represents an amide coupling; R_n represents a cyclic connecting group; m is 0 or more and n is 2 or more satisfying m+n=3; and Z represents a triazine ring.例文帳に追加

（ＡはＨ，ＯＨ，Ｒ_１は２価の基，Ｅはアミド結合，Ｒ_ｎは環状連結基，ｍは０以上，ｎは２以上でｍ＋ｎ＝３，Ｚはトリアジン環を有す） - 特許庁

The invention provides quinazoline compounds represented by formula (1) (wherein R_1 is F or the like; R_2 is H, F or the like; R_3 is alkyl or the like; R_4 is -(CH_2)m-Het; m is 1, 2 or 3; and X is O or the like).例文帳に追加

式（式中、Ｒ1はＦ等、Ｒ2はＨ又はＦ等、Ｒ3はアルキル基等、Ｒ4は-(ＣＨ2)ｍ-Ｈｅｔであり、ｍは１〜３の整数であり、ＸはＯ等である。）のキナゾリン化合物。 - 特許庁

A multiplication part 3 determines and outputs a multiplied value of the emphasis control quantity e (m, n) from the deriving part 2 by the high-band passing component h (m, n) that is the output from the filter 1 for every pixel.例文帳に追加

乗算部３は、画素毎に強調制御量導出部２からの強調制御量ｅ（ｍ，ｎ）と高域通過フィルタ１からの出力である高域通過成分ｈ（ｍ，ｎ）との乗算値を求めて出力する。 - 特許庁

(R^1 is H, a 1-10C alkyl or a halogen atom; R^2 is H or a 1-10C alkyl or haloalkyl; R^3 is a 1-10C alkyl; X is a halogen atom; and M is an alkali metal or an alkaline earth metal).例文帳に追加

（Ｒ^1は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基及びハロゲン原子、Ｒ２は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基又はハロアルキル基、Ｒ^3は炭素数１〜１０のアルキル基、Ｘはハロゲン原子、Ｍはアルカリ金属又はアルカリ土金属） - 特許庁

When η is a coating liquid viscosity, V is a coating speed, (h) is a coating film thickness in the wetting state, L is slot length and D is slot width, it is coated with the coating liquid at 2N/m^2≤A≤700 N/m^2 when A=η×V×h×L×1/D^3.例文帳に追加

ηが塗布液粘度であり、Ｖが塗布速度であり、ｈが湿潤状態の塗布膜厚であり、Ｌがスロット長さであり、Ｄがスロット幅である場合であって、Ａ＝η×Ｖ×ｈ×Ｌ×１／Ｄ^3 のときに、２Ｎ／ｍ^2 ≦Ａ≦７００Ｎ／ｍ^2 で塗布液を塗布する。 - 特許庁

This disazo compound represented by general formula (1) {R_1 is H or methoxy; R_2 is H, methyl, methoxy, ureido or acetylamino; R_3 is H or methoxy; R_4 is H, methyl, acetylamino or ureido; (m) is 2 or 3} in the form of the free acid or its salt.例文帳に追加

遊離酸の形で、下記の一般式（１） （式中、Ｒ_1は水素原子又はメトキシ基を表し、Ｒ_2は水素原子、メチル基、メトキシ基、アセチルアミノ基叉はウレイド基を表し、Ｒ_3は水素原子叉はメトキシ基を表し、Ｒ_4は水素原子、メチル基、アセチルアミノ基叉はウレイド基を表し、ｍは２又は３を表す。）で表されるジスアゾ化合物又はその塩。 - 特許庁

P=E×L×t3÷h3 (1) (wherein, E indicates a bending elastic modulus (Pa), L indicates a length (m) of the cylindrical shock absorbing structure, t indicates the wall thickness (m) of the cylindrical shock absorbing structure, and h indicates a height of the cylindrical shock absorbing structure.).例文帳に追加

Ｐ＝Ｅ×Ｌ×ｔ^3 ÷ｈ^3 （１）^ ^（式中、Ｅは該熱可塑性樹脂の曲げ弾性率（Ｐａ）を表し、Ｌは該筒状の衝撃吸収構造体の長さ（ｍ）を表し、ｔは該筒状の衝撃吸収構造体の肉厚（ｍ）を表し、ｈは該筒状の衝撃吸収構造体の高さ（ｍ）を表す。） - 特許庁

When the warp regulation mechanism 3 is vertically reciprocated to start the winding with the beam 6, the printed warps V are successively pulled out of the beam 4, slantly transferred from the roller 5 to the warp regulation mechanism 3 to expand its width from about 1.6 m to about 2.0 m and woven into the wefts H.例文帳に追加

縦糸調節機構３が上下に運動を開始しビーム６が巻き取りを開始すると、ビーム４からプリントされた縦糸Ｖが次々と引き出され、ローラ５から縦糸調節機構３へ幅約１．６ｍから約２．０ｍに広がりながら斜めに引き出されて、縦糸Ｖが横糸Ｈに織り込まれていく。 - 特許庁

(X is N or a C-halogen group; R^1 is a haloalkyl or a halogen atom; R^2 is H or an alkyl or an acyl; R^3 is H or an alkyl, A is group of formula A-1 to A-4; R^4 is H, an alkyl or a halogen atom; and m and n are each 0 or 1).例文帳に追加

（上記式中、ＸはＮまたはＣ−ハロゲンを示し、Ｒ^1はハロアルキル基またはハロゲン原子を示し、Ｒ^2は水素原子、アルキル基またはアシル基を示し、Ｒ^3は水素原子、アルキル基を示し、Ａは上記Ａ−１〜Ａ−４に示されるいずれかの基であり、Ｒ^4は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子を示し、ｍ、ｎは０又は１を示す。 - 特許庁

Detection light M is scanned so that the detection light M travels around on a scanning path 5 set on the circumference of a projected image 4 displayed on a screen 3, the reflection light H of the detect light M is received by a photodetector and the infiltration of the object into the scanning range of the detection light M is detected, based on a detected signal outputted from the photodetector.例文帳に追加

スクリーン３に表示される投射画像４の外周に設定された走査経路５上を検出光Ｍが周回するように走査させ、その反射光Ｈを受光素子で受光し、この受光素子から出力された検出信号に基づいて、検出光Ｍの走査範囲内に対する物体の侵入を検出する。 - 特許庁

In addition, the film-laminated metal sheet for the container is characterized by the polar force component γs^h of the surface free energy of the face of the resin film which is the inner face side of the container after the container is molded and is brought into contact with the content being at most 2.0×10^-3 N/m.例文帳に追加

また、前記で容器成形後に容器内面側になる樹脂フィルムの内容物と接する面の、表面自由エネルギーの極性力成分γｓ^hが、２．０×１０^-3Ｎ／ｍ以下であることを特徴とする容器用フィルムラミネート金属板である。 - 特許庁

This fluorine-based surfactant is characterized by consisting of a fluorine-based compound having the same or different 2-4: F(CF_2)_2m(CH_2)_nSO_2- [wherein, (m) is 2 or 3; and (n) is 0-2 integer] and -COOM (wherein M is H, ammonium or an alkali metal) groups.例文帳に追加

１分子中に同一或いは異なる２〜４個のF(CF_2)_2m(CH_2)_nSO_2-（式中、ｍは２又は３であり、ｎは０〜２の整数である。）と、-COOM（式中、Ｍは水素原子、アンモニウムまたはアルカリ金属である。）を有するフッ素系化合物からなるフッ素系界面活性剤。 - 特許庁

As for the photoreceptor for electrophotography 1 where an organic photoreceptive layer 3 and a surface protective layer 4 are successively laminated on a conductive supporting body 2, relation between the surface free energy E (N/m) of the layer 4 and the dynamic indentation hardness H (N/m^2) thereof satisfies E≤6/H+6×10^-2.例文帳に追加

導電性支持体２上に有機感光層３と表面保護層４とを順次積層した電子写真用の感光体１であって、表面保護層４の表面自由エネルギーＥ（Ｎ／ｍ）と動的押し込み硬さＨ（Ｎ／ｍ^2）の関係がＥ≦６／Ｈ+６×１０^-2である。 - 特許庁

This fluorine-containing surfactant comprises a fluorine compound (A) that has identical or different 2-4 F(CF_2)_2m(CH_2)_nS- groups (wherein m is 2 or 3, n is an integer of 0-2) and -COOM groups (wherein M is H, ammonium or an alkali metal) in one molecule.例文帳に追加

１分子中に同一或いは異なる２〜４個のF(CF_2)_2m(CH_2)_ｎS-（式中、ｍは２又は３であり、ｎは０〜２の整数である。）と、-COOM（式中、Ｍは水素原子、アンモニウム又はアルカリ金属である。）を有するフッ素系化合物（Ａ）からなることを特徴とするフッ素系界面活性剤。 - 特許庁

In formulae (1) and (3), X is H or a halogen atom; R is one of a halogen atom, lower alkyl, and halogen-substituted lower alkyl; and (m) is an integer of 0 to 2.例文帳に追加

（一般式（１）及び（３）中、Ｘは水素原子またはハロゲン原子を表す。Ｒは、ハロゲン原子、低級アルキル基、及びハロゲン置換低級アルキル基のいずれかを意味する。ｍは０〜２の整数を表す。） - 特許庁

In the formula, (m) and (n) are each 0, 1 or 2; and R1 to R4 are each independently H, methyl, ethyl, isopropyl, isoamyl or phenyl.例文帳に追加

（なお、式（１）中、ｍ、ｎは、０、１または２を示し、Ｒ^1 、Ｒ^2 、Ｒ^3 及びＲ^4 は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、イソアミル基、フェニル基または水素原子を示し、これらは同一であってもよく、異なっていてもよい。） - 特許庁