Mask Blindとは 意味・読み方・使い方

Next, the mask pattern 307 is used as a mask to remove by etching the LSI chip area 332 exposed in the opening 307a, and a blind area 301a is formed.例文帳に追加

次に、マスクパターン３０７をマスクとし、開口部３０７に露出しているＬＳＩチップ領域３３２をエッチング除去し、ブラインド領域３０１ａを形成する。 - 特許庁

This exposure device is provided with the blind device 10 regulating the illuminating area of a mask R having a pattern, and a pattern image transmitted through the illuminating area is exposed on a base plate P.例文帳に追加

パターンを有したマスクＲの照明領域を規定するブラインド装置１０を備え、照明領域を透過したパターン像を基板Ｐに露光する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of realizing exposure with small local unevenness of irradiance distribution in an exposed area by a small-mask continuous exposure method using a single blind shutter.例文帳に追加

本発明は、単一のブラインドシャッターを用いた小型マスク連続露光方式により、露光領域における照射量分布の局所的なムラが少ない露光を実現できる露光装置を提供する。 - 特許庁

An inner wall insulating layer (13) is applied to each of via blind holes (12) formed on the layer (10) up to the depth of the layer (20) by using a protective layer (11) as a mask, thereby forming conductive layers (14).例文帳に追加

支持基板層（１０）に保護層（１１）をマスクとして埋め込み絶縁層（２０）に達する深さまで形成されたブラインドビアホール（１２）に、内壁絶縁層（１３）を施して導電層（１４）が形成される。 - 特許庁

A pattern for via holes is formed by photo etching on one or both sides of a polyamide film having copper layers on both sides thereof which are bonded without using adhesive, the polyamide is etched by alkali solution with the pattern as a mask to form blind via holes, and then laser is radiated using the pattern as a mask.例文帳に追加

両面に銅層を有し、かつ銅層との接合に接着剤を用いないポリイミドフィルムの片面あるいは両面の銅層に、フォトエッチングによりビア開孔用パターンを形成し、該パターンをマスクとしてアルカリ溶液によるポリイミドエッチングによりブラインドビアホールを形成し、さらに該パターンをマスクとして、レーザーを照射することを特徴とする。 - 特許庁

A photomask having identical mask patterns corresponding to identical patterns of display parts A and dummy laminated columnar spacer regions J is used, and intervals r and s between both inner ends of the blind shutters are set to the width of dummy laminated columnar spacer regions to perform exposure.例文帳に追加

表示部Ａ及びダミー積層柱状スペーサー領域Ｊの同一パターンに対応した同一マスクパターンのフォトマスクを用い、ブラインドシャッターの両内端間の間隔ｒ、ｓを、ダミー積層柱状スペーサー領域の幅に設定し露光する。 - 特許庁

The input signal mask circuit 5 detects the size of the jitter of an input signal on the basis of a blind sector signal from VCO 4, and in the case that the jitter of the input signal is excessive in a degree of unstabilizing the PLL operation (in the case that it is larger than a prescribed value), the input signal is masked to prevent output.例文帳に追加

入力信号マスク回路５は、入力信号のジッタの大小をＶＣＯ４からの不感帯信号に基づいて検出し、入力信号のジッタがＰＬＬ動作を不安定にする程度に過大な場合（所定値よりも大きな場合）に、入力信号をマスクして出力を阻止するようになっている。 - 特許庁