PROJECTION EXPOSURE EQUIPMENTとは 意味・読み方・使い方

To provide a projection optical system for projection exposure equipment comprising a light source emitting projection light and the projection optical system arranged between a mask and an image, and having a smaller residual imaging error.例文帳に追加

残留結像誤差が少ない、投影光を放出する光源と、マスクと像の間に配置された投影光学系とを備えた投影露光設備のための投影光学系を提供すること。 - 特許庁

To obtain a projection optical system arranged in exposure equipment and exposure equipment in which variation in interval of mirrors arranged in the mirror cylinder is measured with high precision.例文帳に追加

本発明は、露光装置等に配置される投影光学系および露光装置に関し、鏡筒内に配置されるミラーの間隔の変化を高精度で測定することを目的とする。 - 特許庁

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, CALIBRATION METHOD FOR WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT SYSTEM, WAVEFRONT ABERRATION MEASUREMENT EQUIPMENT, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加

波面収差測定方法、波面収差測定系の校正方法、波面収差測定装置、及び投影露光装置 - 特許庁

To provide exposure equipment whose degradation in exposure accuracy caused by oscillation is reduced by estimating the oscillation of a projection optical system support using the result of position measurement in which a measurement error resulting from an environment is suppressed.例文帳に追加

環境に起因する計測誤差を抑えた位置計測結果を用いて投影光学系支持体の振動を推定することによって、振動によって生じる露光精度の劣化を低減させる露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD, EQUIPMENT, AND PROGRAM FOR ANALYZING INTERFERENCE FRINGE INTERFERENCE MEASURING DEVICE, MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM例文帳に追加

干渉縞解析方法、干渉縞解析装置、干渉縞解析プログラム、干渉測定装置、投影光学系の製造方法、投影露光装置、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁

BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT, APPARATUS FOR MEASURING ABERRATION, APPARATUS FOR MEASURING POSITION, PROJECTION EXPOSURE UNIT, METHOD FOR MANUFACTURING BACK RADIATION TYPE IMAGING EQUIPMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE THEREOF例文帳に追加

背面照射型撮像装置、収差計測装置、位置計測装置、投影露光装置、背面照射型撮像装置の製造方法、およびデバイス製造方法 - 特許庁

The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.例文帳に追加

本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁

The exposure equipment having a projection optical system for projecting light from an original to a substrate and exposing the shot region of the substrate through the original and the projection optical system comprises a substrate stage 22 which moves while holding the substrate, a console 140, measuring instruments 10-19, and a main control section 110.例文帳に追加

原版からの光を基板に投影する投影光学系を有し、原版及び投影光学系を介して基板のショット領域を露光する露光装置であって、基板を保持しかつ移動する基板ステージ２２と、コンソール１４０と、計測器１０〜１９と、メイン制御部１１０とを備える。 - 特許庁