SLM-2とは 意味・読み方・使い方

Thereafter, the sapphire substrate 1 with the surface modified layer 2 formed thereon is carried into a gas phase growing device in an atmosphere containing ammonium of 20 slm, hydrogen of 30 slm and nitrogen of 50 slm, then, temperature is raised to the growing temperature (1100°C) of the GaN layer (nitride semiconductor layer) 3 to grow the GaN layer 3 on the surface of the surface modified layer 2.例文帳に追加

その後、表面改質層２を形成したサファイア基板１を、２０ｓｌｍのアンモニア、３０ｓｌｍの水素及び５０ｓｌｍの窒素を含む雰囲気にある気相成長装置内へ搬入し、ＧａＮ層（窒化物半導体層）３の成長温度（１１００℃）にまで昇温し、表面改質層２の表面にＧａＮ層３を成長させる。 - 特許庁

First, a page data region that can be simultaneously displayed on a display screen of an SLM (spatial light modulator) 10 is divided into N regions (where N is an integer of 2 or more) (S1).例文帳に追加

まず、ＳＬＭ１０の表示画面上に同時に表示可能なページデータ領域をＮ分割（Ｎは２以上の整数）する（Ｓ１）。 - 特許庁

When a signal output device 280 is connected to a charging connector 25, a signal SLM output from the signal output device 280 is sent to a control unit 2 via a signal line installed between the charging connector 25 and the control unit 2.例文帳に追加

信号出力装置２８０が充電コネクタ２５に接続されると、信号出力装置２８０から出力された信号ＳＬＭは、充電コネクタ２５と制御部２との間に設けられた信号線を介して制御部２に送られる。 - 特許庁

When digital information corresponding to contents of one page to be recorded is inputted as an electric signal to a SLM (spatial light modulator) 2, the light transmitted (or reflected) by the SLM is converted into a two-dimensional light-and-dark pattern according to the input signal to irradiate a diffraction grating 3 formed as integrated on the surface of a hologram recording medium 4.例文帳に追加

ＳＬＭ２に記録されるべき１ページ分のディジタル情報が電気信号として入力されると、ＳＬＭを通過（又は反射）した光は、入力信号に応じた２次元の明暗パターンから成る信号光として変換され、ホログラム記録媒体４の表面に一体に形成された回折格子３に照射される。 - 特許庁

N2 gas is fed at 0.5-3.0 slm to a BPSG film 2 formed on a semiconductor substrate 1, thereby annealing it and then connection holes 6 are formed in the annealed BPSG film.例文帳に追加

半導体基板１上に形成したＢＰＳＧ膜２に、Ｎ_2ガスを０．５ｓｌｍ以上３．０ｓｌｍ以下供給してアニール処理を施し、このアニール処理後のＢＰＳＧ膜に接続孔６を形成する。 - 特許庁

Page data are input to the modulation table 12 of a control section 2 in the form of signal bit column and modulated to the form of block pattern and sent out to an SLM 3.例文帳に追加

ページデータは、信号ビット列の形式で制御部２の変調テーブル１２に入力され、ブロックパターンの形式に変調されてＳＬＭ３に送出される。 - 特許庁

The method of manufacturing the photoelectric conversion device 100 includes a step of forming a photoelectric converting layer 3 of silicon on a substrate 1 by using a plasma CVD technique using a gas containing a silane gas and a hydrogen gas as a raw material gas under the condition where a flow rate of the hydrogen gas per unit area of the substrate 1 is 80 slm/m^2 or more.例文帳に追加

基板１上に、シラン系ガスと水素ガスとを含むガスを原料ガスとするプラズマＣＶＤ法を用いて、前記基板１の単位面積当たりの前記水素ガス流量８０ｓｌｍ／ｍ^２以上の条件で、シリコン系の光電変換層３を形成する工程を含むことを特徴とする光電変換装置１００の製造方法。 - 特許庁