STRESS RELIEF METHODとは 意味・読み方・使い方

To provide a stress relief method of a silicon substrate that has an inexpensive process and no thermal damage, and can reduce an environment load in the stress relief for the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を対象としたストレスリリーフにおいて、低コストのプロセスで熱ダメージがなく、且つ環境負荷を低減することが可能なシリコン基板のストレスリリーフ方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a nonoriented electric steel sheet which has crystal grains of small diameter and excellent workability before stress relief annealing, and has crystal grains of a largely grown diameter, and an excellent iron loss property after stress relief annealing, and to provide a method for producing the steel sheet.例文帳に追加

歪取焼鈍前に結晶粒径が小さく加工性が良好であり、歪取焼鈍後に結晶粒が大きく成長し鉄損の優れた無方向性電磁鋼板を、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonoriented magnetic steel sheet having adequate workability due to a small size of crystal grains before stress relief annealing, and having excellent iron loss due to large growth of the crystal grains during the stress relief annealing, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

歪取焼鈍前の結晶粒径は小さく加工性が良好であり、歪取焼鈍時に結晶粒が大きく成長することにより鉄損の優れた無方向性電磁鋼板、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming an excellent relief pattern with low residual stress at a low curing temperature using an alkali developable photosensitive relief pattern forming material, a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

アルカリ現像性の感光性レリーフパターン形成材料を用いて、低キュア温度で残留応力が低く、優れたレリーフパターンを形成する、感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition forming an excellent relief pattern with low residual stress at a low cure temperature using an alkali developable photosensitive relief pattern forming material, a method for manufacturing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加

アルカリ現像性の感光性レリーフパターン形成材料を用いて、低キュア温度で残留応力が低く、優れたレリーフパターンを形成する、感光性樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置を提供する。 - 特許庁

GRAIN-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET SUPERIOR IN CORE LOSS AFTER STRESS RELIEF ANNEALING AND IN BLANKING PROPERTY, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

歪取り焼鈍後の鉄損に優れ、かつ打ち抜き加工性が良好な方向性電磁鋼板およびその製造方法 - 特許庁

In the method of manufacturing the iron core, which is made of a magnetic steel sheet that is manufactured through the processes of blanking, stacking, forming, and stress-relief annealing, for an electric appliance, the manufacturing method of this invention has a process of impressing ultrasonic waves after the stress-relief annealing process.例文帳に追加

本発明の電気機器用鉄心の製造方法は、打抜き、積層、成型、歪取り焼鈍の工程を経て製造される電磁鋼板からなる電気機器用鉄心であり、前記歪取り焼鈍工程の後に超音波を印加する工程を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition providing a polyimide resin film having extremely low residual stress after curing, and also to provide a method for forming a cured relief pattern by using the composition.例文帳に追加

硬化後のポリイミド樹脂膜としてきわめて低い残留応力を与える感光性樹脂組成物、さらに該組成物を用いた硬化レリーフパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁