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Si oxidationとは 意味・読み方・使い方
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「Si oxidation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 115件
HIGHLY OXIDATION RESISTANT Nb-Al-Si INTERMETALLIC COMPOUND例文帳に追加
高耐酸化性Nb−Al−Si系金属間化合物 - 特許庁
ANODIC OXIDATION TREATING METHOD FOR Si ALUMINUM ALLOY例文帳に追加
Si系アルミニウム合金の陽極酸化処理方法 - 特許庁
The oxygen limits the formation of -Si-H and -Si-OH groups in the low dielectric constant material, thereby reducing the occurrence of moisture absorption and oxidation in the low dielectric constant material.例文帳に追加
酸素は、低誘電率材料中の-Si-H基及び-Si-OH基の形成を制限し、それにより、低誘電率材料中の吸湿及び酸化が減少する。 - 特許庁
The thin Si layer is consumed by oxidation of an interface of the thin Si with the embedded oxide.例文帳に追加
薄いSi層は埋込み酸化物/薄いSiの界面の酸化によって消費される。 - 特許庁
To prevent the spread of oxidation up to an SiC substrate for thermal oxidation of Si deposited on the SiC substrate.例文帳に追加
SiC基板上に堆積したSiを熱酸化する際に、SiC基板にまで酸化が及ぶのを防ぐ。 - 特許庁
Thereafter, a thermal oxide film is formed within the cavity with thermal oxidation of the Si substrate 1 (BOX oxidation method).例文帳に追加
その後、Si基板1を熱酸化して空洞部内に熱酸化膜を形成する(BOX酸化工程)。 - 特許庁
COMPOSITE MATERIAL IMPREGNATED WITH HIGHLY OXIDATION RESISTANT SI AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
高耐酸化性Si含浸複合材料およびその製造方法 - 特許庁
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「Si oxidation」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 115件
Hereby, there formed between the SiC layer 2 and the first Si oxidation layer 4 is a second Si oxidation layer 3 having a lower rate of content of SiO_2 of about 65% than the first Si oxidation layer 4.例文帳に追加
これにより、SiC層2と第1のSi酸化層4の間に、第1のSi酸化層4よりもSiO_2の含有率が65%程度と少ない第2のSi酸化層3が形成される。 - 特許庁
The oxidation-resistant coating method for a carbon/carbon composite material comprises (a) the step of coating the carbon/carbon composite material with Si and (b) the step of thermally treating the applied Si to impregnate it into the composite material to form a SiC layer and a Si layer successively.例文帳に追加
(a)炭素/炭素複合材料上にSiを塗布する工程、及び(b)塗布されたSiを熱処理して、前記複合材料にSiを含浸させることにより、SiC層とSi層を順次形成する工程を含む炭素/炭素複合材料の耐酸化コーティング方法。 - 特許庁
An Nb-Al-Si intermetallic compound containing 20 atomic % Al and 47 atomic % Si, forming a dense alumina protective film on the surface in a high temperature atmosphere and excellent in oxidation resistance, is obtained.例文帳に追加
Alを20原子%、Siを47原子%含有し、高温大気中において表面に緻密なアルミナ保護膜を形成し、耐酸化性に優れるNb-Al-Si系金属間化合物を得る。 - 特許庁
An amorphous Si film 4 is formed on a first SiO2 film 3 formed by thermal oxidation on a p-type Si substrate 1.例文帳に追加
p型Si基板1上の、熱酸化によって形成された第1のSiO_2膜3上に、非晶質Si膜4を形成する。 - 特許庁
As a result, the upper surface edge part of the Si layer 2 can be oxidized without causing oxidation of a lower surface edge part of the Si layer 2.例文帳に追加
これにより、Si層2の下面エッジ部の酸化を伴うことなくSi層2の上面エッジ部を酸化することができる。 - 特許庁
Contamination and the surface oxidation of the a-Si film 13a are prevented, and the characteristics of the TFT using a p-Si film obtained by crystalizing the film are stabilized.例文帳に追加
a−Si膜13aの汚染や表面酸化が防止され、これを結晶化して得られたp−Si膜を用いたTFTの特性が安定化する。 - 特許庁
Thereafter, thermal oxidation of the Si substrate 1 forms a thermally-oxidized film each in the cavities 25 and 27.例文帳に追加
その後、Si基板1を熱酸化して空洞部25、27内にそれぞれ熱酸化膜を形成する。 - 特許庁
An SiO_2 film 2 is formed as a thermal oxidation film on the surface of an Si substrate 1.例文帳に追加
Si基板1の表面に熱酸化膜としてSiO_2膜2を形成する。 - 特許庁
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