activated sputteringとは意味・読み方・使い方

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意味・対訳反応性スパッタリング

JST科学技術用語日英対訳辞書での「activated sputtering」の意味

activated sputtering

反応性スパッタリング

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「activated sputtering」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11件

例文

INTEGRATED ANODE AND ACTIVATED REACTIVE GAS SOURCE FOR USE IN MAGNETRON SPUTTERING DEVICE例文帳に追加

マグネトロン・スパッタリング・デバイスにおいて使用するための統合したアノードおよび活性化反応性ガス源 - 特許庁

Pre-sputtering is carried out, and unstable silicon atoms are removed by bonding them to activated oxygen (step S12).例文帳に追加

プレスパッタを行い、不安定なシリコン原子を活性化された酸素と結合させ除去する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

To provide an integrated anode and activated reactive gas source for use in a magnetron sputtering device and a magnetron sputtering device incorporating the same.例文帳に追加

本発明は、マグネトロン・スパッタリング・デバイスで使用するための統合したアノードおよび活性化反応性ガス源、ならびにそれを組み込んだマグネトロン・スパッタリング・デバイスに関する。 - 特許庁

The lanthanoid atom-activated yttrium precursor that is prepared by the RF sputtering or EB vapor deposition is calcined in an atmosphere at 500 to 1,000°C to give the phosphor.例文帳に追加

ＲＦスパッタリング法又はＥＢ蒸着法により得られたランタノイド元素付活酸化イットリウム前駆体を５００〜１０００℃の温度で大気焼成して得ることができる。 - 特許庁

A self-cleaning coating activated by the photocatalytic action is formed on a substrate by spray thermal decomposition, chemical deposition or magnetron sputtering vacuum deposition, thereby providing the substrate with the self-cleaning surface activated by the photocatalytic action.例文帳に追加

基体上に光触媒作用によって活性化された自浄性被覆を、噴霧熱分解、化学蒸着、又はマグネトロンスパッタリング真空蒸着により形成することにより、基体に、光触媒作用によって活性化された自浄性表面を与える。 - 特許庁

A surface of a resin molded item is activated by a plasma treatment and then is subjected to a metal coating treatment by means of a physical deposition method selected from a sputtering method, a vacuum deposition method and an ion plating method.例文帳に追加

プラズマ処理により活性化された表面に、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティングから選ばれる物理蒸着法で金属の被覆処理がなされる樹脂成形体に関する。 - 特許庁

例文

In the connection method, the objects to be connected are connected each other by forming a connecting surface of the object to be connected which is surface-activated with a metal film by sputtering a metal onto at least one of the objects to be connected in the vacuum chamber to form the metal film, when the objects to be connected having the surface-activated connecting surfaces are to be connected each other.例文帳に追加

表面活性化された接合表面を有する被接合物どうしを接合するときに、真空チャンバー内において、少なくとも一方の被接合物に金属をスパッタして金属膜を形成することにより、金属膜により当該被接合物の表面活性化された接合表面を形成して、被接合物どうしを接合する。 - 特許庁

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「activated sputtering」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 11件

例文

The electron emission surface can be activated by removing an adsorptive substance of the electron emission surface, and the formation of a Ba-O dipole layer by means of sputtering or the like and annealing to the negative electrode base material 4 on which the alloy layer 8 is formed.例文帳に追加

また、上記合金層８を形成した陰極基材４に対し、スパッタ等とアニール処理により電子放出面の吸着物質の除去とＢａ−Ｏ双極子層の形成を行い、電子放出面を活性化することができる。 - 特許庁

The fluoride thin film depositing method is characterized in that gas containing fluorine is activated and introduced to perform sputtering by irradiating electrons on the gas containing fluorine at the energy below the ionization energy of the gas containing fluorine in a thin film depositing method to deposit a metal fluoride thin film on a substrate by performing the reactive sputtering with the gas containing at least fluorine by using a metal target.例文帳に追加

本発明のフッ化物薄膜の形成方法は、金属ターゲットを用い、少なくともフッ素を含むガスで反応性スパッタを行うことにより、基板上に金属フッ化薄膜を形成する薄膜形成方法において、フッ素を含むガスのイオン化エネルギー以下で電子を該フッ素を含むガスに照射することにより該フッ素を含むガスを活性化して導入しスパッタを行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a plasma processor in which a sputtering of a porous shielding plate can be prevented even if a surface is not protected with quartz and the like while a microwave field and electrically charged particles are shielded and a stable processing by activated neutral particles is performed, and to provide a plasma processing method.例文帳に追加