active gaugeとは 意味・読み方・使い方

A slot 121 is formed in a silicon small-gauge core 102, and an active layer 122 is arranged inside the slot 121.例文帳に追加

シリコン細線コア１０２にスロット１２１が形成され、スロット１２１の内部に活性層１２２が配置されている。 - 特許庁

The first diaphragm 25 of the active gauge resistance forming portion 101 and the second diaphragm 26 of the dummy gauge resistance forming portion 102 for temperature compensation are formed of a common polysilicon film 5.例文帳に追加

アクティブゲージ抵抗形成部１０１の第１のダイヤフラム２５および温度補償用ダミーゲージ抵抗形成部１０２の第２のダイヤフラム２６が共通のポリシリコン膜５より形成されている。 - 特許庁

By injecting current into the active layer 18 from the small-gauge wire electrode 32 via the transparent conductive film 28, current can be injected to the active layer 18 uniformly.例文帳に追加

この細線電極３２から透明導電膜２８を介して活性層１８に電流を注入することにより、活性層１８に対して均一に電流が注入できるようになる。 - 特許庁

The semiconductor pressure sensor includes a silicon substrate 1, an active gauge resistance forming portion 101 having a first diaphragm 25 and a first gauge resistance 7 formed on the silicon substrate 1, and a dummy gauge resistance forming portion 102 for temperature compensation having a second diaphragm 26 and a second gauge resistance 7 formed on the substrate 1.例文帳に追加

本発明の半導体圧力センサは、シリコン基板１と、シリコン基板１上に形成された第１のダイヤフラム２５および第１のゲージ抵抗７を有するアクティブゲージ抵抗形成部１０１と、基板１上に形成された第２のダイヤフラム２６および第２のゲージ抵抗７を有する温度補償用ダミーゲージ抵抗形成部１０２とを備えている。 - 特許庁

In the bed scale 100, the weight is measured in accordance with the output signal of the metal strain gauge 123 excellent in its accuracy and the active information is estimated in accordance with the output signal of the semiconductor strain gauge 124 excellent in its responsiveness.例文帳に追加

ベッドスケール１００では、精度に優れた金属歪ゲージ１２３の出力信号に基づいて重量が計測され、応答性に優れた半導体歪ゲージ１２４の出力信号に基づいて活動情報が計測される。 - 特許庁

This active substance is a powdery active substance consisting of amorphous coated graphite wherein, with respect to a dispersion obtained by dispersing 100 g of active substance powder together with 2 g of carboxymethyl cellulose in 200 g of water, the grain diameter at graining initiation as measured on the basis of dispersion degree according to the grind(fineness) gauge method defined in JIS K5400 is 50 μm or less.例文帳に追加

この活物質は、非晶質被覆黒鉛よりなる粉末状活物質であって、活物質粉末１００ｇを２ｇのカルボキシメチルセルロースと共に２００ｇの水に分散させてなる分散液について、ＪＩＳ Ｋ５４００ 粒ゲージ法による分散度に準拠して測定される、粒が現れ始める粒子径が、５０μｍ以下である。 - 特許庁

To provide a method and device capable of performing more accurate electrical calibration regardless of the magnitude of the non-equilibrium state of a bridge, in a measuring instrument based on an active four-gauge method, and too provide a material tester which uses them.例文帳に追加

アクティブ４ゲージ法に基づく測定装置において、ブリッジの不平衡状態の大きさにかかわらず、より正確な電気的校正を行うことのできる方法と装置、およびこれらを用いた材料試験機を提供する。 - 特許庁