aperture field methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a manufacturing method and a manufacturing device for controlling the height of an optical aperture or a protuberance and an air bearing surface in a near field optical head.例文帳に追加

近視野光ヘッドにおいて、光学的な開口や突起とエアベアリング表面の高さを制御できる製造方法と製造装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for forming micro apertures having a uniform aperture diameter by a simple method, in a method for manufacturing probes for scanning near-field microscopes.例文帳に追加

本発明の課題は、走査型近視野顕微鏡用プローブの製造方法において、簡便な方法で均一な開口径を有する微小開口を形成する方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a lateral electric field type liquid crystal display device capable of effectively preventing light from leaking by improving an aperture ratio, and a fabrication method thereof.例文帳に追加

開口率の向上を図り、光漏れを効果的に防止できるようにした横電界方式の液晶表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a horizontal electrical field mode liquid crystal display device and its manufacturing method that not only improves aperture ratio but also simplifies a manufacturing process.例文帳に追加

本発明は、開口率を向上すると共に製造工程を単純化した横電界モード液晶表示装置およびその製造方法を提供する - 特許庁

To manufacture an opening that can be brought extremely closer to a sample or a record medium surface at low costs in a manufacturing method of a minute-aperture-type near-field optical probe.例文帳に追加

微小開口型の近視野光プローブの作製方法において、サンプルあるいは記録媒体表面に極めて近接できる構造の開口を低コストで作製すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which allows for formation of a field plate structure without variation with respect to the center of an aperture in an insulating film.例文帳に追加

本発明は、フィールドプレート構造を絶縁膜の開口中心に対してばらつきなく形成できる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal electro-optical device that can display a bright image in a large view field by forming an auxiliary capacitor without reducing the aperture ratio.例文帳に追加

開口率を低下させることなく補助容量を形成し、明るく視野角の広い画像表示が可能な液晶電気光学装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for boring a micro aperture capable of machining the opening to have a square shape at the edge of the aperture on the surface side of a substrate and not to spread on the surface side of the substrate when the micro aperture is bored from the surface side of the substrate, and to provide a process for making a proximity field exposure mask employing that method.例文帳に追加

基板の表面側から微小開口を形成するに際し、該基板の表面側の開口の縁に角張った形状を有し、かつ該基板の表面側が広がった形状とならないように加工することが可能となる微小開口の加工方法、該微小開口の加工方法を用いた近接場露光マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁