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beam Eとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ビーム
「beam E」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 195件
E-BEAM WRITE FOR HIGH-PRECISION DOT PLACEMENT例文帳に追加
高精度ドット配置のための改良型電子ビーム書き込み - 特許庁
SURGICAL STAPLER INCORPORATING E-BEAM FIRING MECHANISM例文帳に追加
Eビーム発射機構が組み込まれた外科用ステープラ - 特許庁
In the exposure process to form the resist mask 103', the beam has the intensity distribution, having a main beam intensity Im and a side beam intensity Is, and the main beam intensity Im and the side beam intensity Is holds the relations Is<E and Im>E, where E is the beam intensity at which the film residual rate of the mask layer begins to saturate.例文帳に追加
レジストマスク103’を形成する露光において、ビーム光が、メインビーム強度Imとサイドビーム強度Isとを含む強度分布を有し、メインビーム強度Imとサイドビーム強度Isとが、Is<E,Im>Eの関係を持つ(E:マスク層の残膜率が飽和を開始するビーム光強度)。 - 特許庁
A path control device makes an electron beam E generated and laser light R collide with each other by controlling the paths of the electron beam E and laser light R.例文帳に追加
発生させた電子ビームE及びレーザ光Rの経路を制御して電子ビームEとレーザ光Rとを衝突させる。 - 特許庁
To correct a deflection chromatic aberration of a primary electron beam by an E×B separator in an electron beam device.例文帳に追加
電子線装置において、E×B分離器による一次電子線の偏向色収差を補正する。 - 特許庁
ARTICULATING SURGICAL STAPLING INSTRUMENT INCORPORATING TWO-PIECE E-BEAM FIRING MECHANISM例文帳に追加
ツーピースのEビーム発射機構を含む関節運動外科用ステープラ - 特許庁
Then the oxide film 12 is irradiated with an excimer laser beam E.例文帳に追加
次いで、酸化膜12にエキシマレーザビームEを照射する。 - 特許庁
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「beam E」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 195件
In the reaction space F where laser beam L1 passes in multiplex, the electron beam E and the laser beam L interact with each other to generate X-ray.例文帳に追加
レーザー光L1が多重に通過する反応空間Fで、電子ビームEとレーザー光Lとを相互作用させ、X線を発生させる。 - 特許庁
At the same time, deflective chromatic aberrations are suppressed which are generated in the primary charged particle beam at the first E×B deflector 31 by a second E×B deflector 32 fixed to the first E×B deflector 31, and the observation image of high resolution and high contrast without shading is acquired.例文帳に追加
同時に、第1のE×B偏向器31に固定した第2のE×B偏向器32により第1のE×B偏向器31で一次荷電粒子ビームに発生する偏向色収差を抑制し、高分解能かつ、シェーディングのない高コントラストな観察像を取得する。 - 特許庁
The convex mirror 1a and the concave mirror 2a are inclined with the surface perpendicular to the optical axis of the laser beam (e) in such a manner that the beam reflection angles Φ1/Φ2 of the respective reflection beams (e) 2 and (e) 3 vary from each other.例文帳に追加
凸面ミラー1aと凹面ミラー2aは、それぞれの反射ビームe2,e3のビーム反射角ψ_1,ψ_2が互いに異なるようにレーザビームeの光軸に垂直な面に対して傾斜されている。 - 特許庁
At recording the optical disk, return light receiving signals E, F of a sub-beam 16b are added by an adding amplifier 34 to obtain E+F.例文帳に追加
光ディスクの記録時に、サブビーム16bの戻り光受光信号E,Fを加算アンプ34で加算してE+Fを求める。 - 特許庁
In parallel with this calculation, turn back light receiving signals E, F of a preceding sub-beam 16b are added by an adding amplifier 34 to obtain the value of E+F.例文帳に追加
これと並列して、先行サブビーム16bの戻り光受光信号E,Fを加算アンプ34で加算してE+Fを求める。 - 特許庁
A collision position changing control part 21 changes the direction of the center orbit E of the electron beam e which enters into a throttle hole 8 by interlockingly operating these deflection coils 11, 13 while the center orbit E of the electron beam e passes through the throttle hole 8.例文帳に追加
衝突位置変更制御部21は、これら偏向コイル11、13を連動操作することで、電子ビームeの中心軌道Eが絞り孔8を通過しつつ、絞り孔8へ入射する電子ビームeの中心軌道Eの方向を変える。 - 特許庁
CORRECTION OF VARIATION OF WIRING WIDTH IN SUBFIELD OF E-BEAM PROJECTION LITHOGRAPHY例文帳に追加
E−ビーム投影リソグラフィにおけるサブフィールド内配線幅変動の補正 - 特許庁
Accordingly, occurrence of new defects by the irradiation of the excimer laser beam E can be prevented.例文帳に追加
これによれば、エキシマレーザビームの照射により新しい欠陥が生成することを防止できる。 - 特許庁
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