confinement fieldとは 意味・読み方・使い方

To freely adjust the threshold voltage Vth of a fined element in spite of a scaling rule on a field effect semiconductor device having a multidimensional confinement quantum well.例文帳に追加

多次元閉じ込め量子井戸を有する電界効果型半導体装置に関し、スケーリング則に拘わらず、微細化した素子のしきい値電圧Ｖ_thを自由に調整する。 - 特許庁

Since the low temperature plasma gas is continuously supplied to the discharge channel, a pinch effect or a confinement effect by a self magnetic field is carried out repeatedly and the EUV emission continues.例文帳に追加

放電チャンネルには上記低温プラズマガスが連続的に供給されるので、ピンチ効果もしくは自己磁場による閉じ込め効果が繰り返し行われＥＵＶ放射が継続する。 - 特許庁

The magnetic field has desired magnetic field components perpendicular to a direction of plasma confinement that selectively restrain movement of charged species of the plasma from the first region to the second region dependent upon the process conditions used to form the plasma.例文帳に追加

この磁界は前記プラズマを形成するために用いられるプロセス条件に依存して、前記第１の領域から前記第２の領域へのプラズマの荷電活性種の動きを選択的に抑制する、プラズマの閉じ込めの方向に垂直な所要の磁界成分を有する。 - 特許庁

A confinement magnetic field is formed within the chamber with a pair of mirror electromagnets and the multipole permanent magnet device, and gas for producing ions and 2.45 (GHz) microwave are introduced into the magnetic field to produce ion beams in the center axis direction of the chamber.例文帳に追加

前記一対のミラー電磁石と前記多極永久磁石装置とにより前記チャンバ内に閉じ込め磁場を形成すると共に、該磁場にイオン生成用のガスと２．４５（ＧＨｚ）のマイクロ波を導入することにより、前記チャンバの中心軸方向にイオンビームを生成する。 - 特許庁

The plasma confinement device is provided which includes a chamber, a magnetic field generator for applying a magnetic field into the chamber virtually along its main axis, a current coil for guiding a directional electric field into the chamber and a plasma source for pouring plasma containing electrons and ions into the chamber.例文帳に追加

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバの主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器、このチャンバ内に方位性電場を誘導するための電流コイル、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源、を備える、プラズマ閉じ込めデバイスを提供する。 - 特許庁

The plasma confinement device is provided which includes the following:a chamber, a magnetic field generator for applying a magnetic field into the chamber substantially along its main axis, a current coil for inducing a directional electric field into the chamber, and a plasma source for injecting plasma containing electrons and ions into the chamber.例文帳に追加

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバの主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器、このチャンバ内に方位性電場を誘導するための電流コイル、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源、を備える、プラズマ閉じ込めデバイスを提供する。 - 特許庁

The plasma confinement device includes a chamber, a magnetic field generator for applying a magnetic field in the chamber substantially along the spindle of the chamber, and a current coil for inducing an azimuthal electric field in the chamber, and a plasma supply source for injecting plasma which has electrons and ions into the chamber.例文帳に追加

プラズマ閉じ込めデバイスであって、以下：チャンバ、このチャンバの主軸に実質的に沿って、このチャンバ内に磁場を適用するための磁場発生器、このチャンバ内に方位性電場を誘導するための電流コイル、および電子およびイオンを含むプラズマをこのチャンバに注入するためのプラズマ供給源、を備える、プラズマ閉じ込めデバイスを提供する。 - 特許庁

To improve the operation efficiency of an emitter and the confinement of carriers, by reducing, canceling or inverting a spontaneously generated polarization induced field in a semiconductor light emitter where crystal layers (2-7) are grown in the polarity direction.例文帳に追加

極性方向に沿って結晶層（２〜７）を成長させた半導体光エミッタ内の自然発生的な分極誘導電界を低減し、打ち消し、または反転し、エミッタの動作効率およびキャリアの閉じ込めを改善する。 - 特許庁