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copper(II) oxideとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 酸化銅(II)(さんかどう に、英: copper(II) oxide)は化学式 CuO で表される銅の酸化物で、黒色の粉末。
「copper(II) oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
Preferred catalyst which are used as the catalysts in the oxidation reaction include vanadium (V) oxide, iron (II) chloride, iron (III) chloride, iron (III) bromide, iron (II) oxide, iron (III) oxide, iron, copper (I) chloride, copper (II) chloride, copper (I) oxide, copper (II) chloride, and copper.例文帳に追加
該酸化反応に用いられる触媒としては酸化バナジウム(V)、塩化鉄(II)、塩化鉄(III)、臭化鉄(III)、酸化鉄(II)、酸化鉄(III)、鉄、塩化銅(I)、塩化銅(II)、酸化銅(I)、酸化銅(II)、銅が好ましいものとして挙げられる。 - 特許庁
In the electrolytic process, electrolysis is preferably performed in the presence of a nickel oxide (III) hydride, copper oxide (II) and chlorine ions.例文帳に追加
電気分解工程において、酸化ニッケル(III)水化物、酸化銅(II)、塩素イオンの存在下で電気分解することが好ましい。 - 特許庁
To solve the problem that, in a conventional electrolytic copper plating method using an insoluble anode, it is difficult to suppress an rapid increase of the dissolved oxygen concentration in an electrolytic copper plating solution caused by supplying copper oxide (II) as a copper source.例文帳に追加
銅源としての酸化銅(II)を補給することによって発生した電解銅めっき液中の溶存酸素濃度の急増を抑制困難な従来の不溶性陽極を用いた電解銅めっき方法の課題を解消する。 - 特許庁
ALUMINOPHOSPHATE GLASS CONTAINING COPPER (II) OXIDE AND USE THEREOF FOR LIGHT FILTERING例文帳に追加
銅(II)酸化物を含有するアルミノリン酸ガラス及び光フィルタリングにおけるその使用 - 特許庁
ALUMINOPHOSPHATE GLASS CONTAINING COPPER (II) OXIDE, AND USE THEREOF FOR OPTICAL FILTERING例文帳に追加
酸化銅(II)を含んでいるアルミノリン酸塩ガラスおよび光フィルタリングのためのそれらの使用 - 特許庁
Umesu, which contains citric acid as the main component, was used for metal plating and soldering and the oxidation coating treatment of bronze and iron ware (copper oxide (II) and iron oxide (II), an anti-rust treatment using an oxide film made of ferrous oxide called "kurodome"), in addition to the sterilization of tools and bodily wounds.発音を聞く 例文帳に追加
また、クエン酸を主成分とする梅酢は器具や人体の傷口の消毒の他、金属のめっきやはんだ付け、青銅器・鉄器の酸化皮膜処理(酸化銅(II)および酸化鉄(II):酸化第一鉄による『黒留め』と呼ばれる酸化皮膜による防錆処理)のためにも用いられた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
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「copper(II) oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 17件
The first fine particles 12 are formed of one or a plurality of types of particles selected from among iron oxide (Fe_2O_3), iron pyrite (FeS_2), chalcopyrite (CuFeS_2), copper (I) oxide (Cu_2O), copper (II) oxide (CuO), and metal particles having a diameter of 0.1 to 5 μm.例文帳に追加
第1微粒子12は、酸化鉄(Fe_2O_3)、黄鉄鉱(FeS_2)、黄銅鉱(CuFeS_2)、酸化銅(I)(Cu_2O)、酸化銅(II)(CuO)、または、粒径が0.1〜5μmの金属粒子のうちの1または複数から成っている。 - 特許庁
The gas containing the noxious component is brought into contact with a purifier comprised of addition of an alkali metal compound to a metal oxide having copper (II) oxide and manganese (IV) oxide as principal components.例文帳に追加
前記の有害成分を含むガスを、酸化銅(II)及び酸化マンガン(IV)を主成分とする金属酸化物にアルカリ金属化合物を添着してなる浄化剤と接触させて有害成分を除去する。 - 特許庁
This method comprises adsorbing and removing silanes, methylsilanes and dimethylsilanes in trimethylsilanes by using an active carbon in which at least copper oxide (II) and zinc oxide are mixed and solidified.例文帳に追加
少なくとも酸化銅(II)および酸化亜鉛を混合固化させた活性炭を用いてトリメチルシラン中のシラン、メチルシラン、ジメチルシランを吸着除去する。 - 特許庁
To provide a method for dissolving copper (II) oxide (CuO) deposit on a strainer in a stator water cooling system of an industrial generator.例文帳に追加
工業用発電機の固定子水冷システム(SWCS)中のストレーナ上の酸化第二銅(CuO)堆積物を溶解する方法。 - 特許庁
Under a hydrogen carrier gas atmosphere, 2,3-dimethyl-1,3-butadiene is continuously manufactured by rearrangement/dehydration reaction of 3,3-dimethyl-2-butanone by a vapor-phase process using a catalyst with a solid oxide carrier carrying cobalt oxide (II), cobalt (III), or copper oxide (II).例文帳に追加
水素キャリアガス雰囲気下で、固体酸化物担体に酸化コバルト(II)コバルト(III)又は酸化銅(II)が担持された触媒を用いた気相プロセスによる3,3−ジメチル−2−ブタノンの転位・脱水反応によって、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンを連続的に製造する。 - 特許庁
THFA and a hydrogen gas are supplied by a gas phase in a process which produces 3,4-dihydro-2H-pyran from THFA under the presence of a catalyst which supports copper oxide (II) or rhodium to a solid oxide catalyst.例文帳に追加
固体酸化物触媒に酸化銅(II)又はロジウムが担持された触媒の存在下でTHFAから3,4−ジヒドロ−2H−ピランを製造する工程において、THFA及び水素ガスを気相で供給する。 - 特許庁
To provide an etchant for copper oxide and an etching method, wherein when copper oxide, particularly CuO (II), as a thermal reaction type resist material is exposed to a laser beam, the etchant can selectively etch the exposed and unexposed parts thereof.例文帳に追加
熱反応型レジスト材料として銅の酸化物を用いてレーザー光で露光した場合、特に、CuO(II)を熱反応型レジスト材料として、その露光・未露光部を選択的にエッチングすることのできる酸化銅用エッチング液及びエッチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
The method for preparing 3,3-dimethylbutyraldehyde includes a step of contacting 3,3-dimethylbutanol with: an oxidizing metal oxide (i) such as copper oxide (II); or an oxidizing component (ii) selected from a group comprising a 2,2,6,6-tetramethyl-1-piperidinyloxy free radical and an oxidant such as sodium hypochlorite.例文帳に追加
3,3−ジメチルブタノールを、(i)酸化銅(II)等の酸化性金属酸化物;または(ii)2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシ遊離基および次亜塩素酸ナトリウム等の酸化剤、からなる群より選択される酸化性成分と接触させる3,3−ジメチルブチルアルデヒドの製造方法。 - 特許庁
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