deposition conditionとは 意味・読み方・使い方

The carriage control unit 7 switches the substrate 5 from a passing condition of the opening part 3a to a non-passing condition, and the operation switch control unit 6 switches the operation of the first vapor deposition source 2a and the second vapor deposition source 2b in the non-passing condition.例文帳に追加

搬送制御部７は、基板５を開口部３ａを通過する通過状態から非通過状態に切り換え、作動切換制御部６は非通過状態において第１蒸着源２ａ及び第２蒸着源２ｂの作動を切り換える。 - 特許庁

To provide a coaxial arc vapor deposition source capable of maintaining optimum discharge condition.例文帳に追加

最適な放電条件を維持できる同軸型アーク蒸着源を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR SELECTING OPTIMUM CONDITION FOR EXECUTION OF AEROSOL DEPOSITION METHOD, AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

エアロゾルデポジション法の最適実施条件の選定方法、及び成膜方法 - 特許庁

In the film deposition process, deposition is performed under such a condition that the temperature of the substrate during deposition is controlled to be in a range from the eutectic temperature of zinc oxide and the flux to a temperature higher by 150°C or less than the eutectic temperature.例文帳に追加

成膜工程では、堆積時の基板温度を酸化亜鉛とフラックスの共晶温度以上共晶温度＋１５０℃以下の範囲に制御した条件で堆積するものである。 - 特許庁

To shorten the deposition working time as much as possible, and to improve the durability of a crucible by keeping a raw material for deposition in a molten condition even after the deposition of one batch is completed.例文帳に追加

１バッチの蒸着終了後にも蒸着原料を溶融状態に保持して、蒸着作業時間をできるだけ短縮するとともに、坩堝の耐久性を向上する。 - 特許庁

To provide an electrochromic element having high coloring efficiency at a low cost by a film-deposition technique by which high speed film-deposition is made possible and control of a film-deposition condition for forming a gap can be easily performed.例文帳に追加

高速成膜が可能であり、また空隙形成のための成膜条件制御も容易な成膜技術により、発色効率の高いエレクトロクロミック素子を低コストに提供する。 - 特許庁

A film deposition system includes: a physical quantity measurement element for measuring a physical quantity of the thin film during deposition; a comparison section for comparing the physical quantity of the thin film with the desired physical quantity; and a control section for controlling a film deposition condition and/or film deposition time based on the compared result of the comparison section.例文帳に追加

成膜装置において、成膜中の薄膜の物理量を測定する物理量測定素子と、前記薄膜の物理量と所望の物理量とを比較する比較部と、前記比較部の比較結果に基づいて成膜条件及び／または成膜時間を制御する制御部とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus suitable for depositing a mixed film or a multi-layered film formed of a plurality of materials under an optimum condition on an object for film deposition, a thin film deposition method by the apparatus, and an optical element deposited by the thin film deposition method.例文帳に追加

複数の材料から形成される混合膜や多層膜を最適な条件にて、被成膜対象物上に成膜するのに好適な薄膜形成装置、及びこの装置による薄膜形成方法、並びにこの薄膜形成方法によって成膜された光学素子を提供すること。 - 特許庁