「deposition condition」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a vacuum deposition system and method capable of automatically adjusting substrate angles and setting a film deposition condition for every substrate to be simultaneously deposited.例文帳に追加

基板角度を自動調整し、かつ同時蒸着を行う基板毎に成膜条件出し可能な真空蒸着装置および方法を提供する。 - 特許庁

Even if the heating by the electron beam is stopped after the deposition is completed, the molten condition of the raw material for deposition can be maintained, and the raw material for deposition is not solidified and the solidified raw material for deposition needs not be heated or melted from the beginning in the next deposition.例文帳に追加

このように、蒸着終了後に電子ビームによる加熱が停止しても、蒸着原料は溶融状態が保持されるので、蒸着原料が固化しなく、次の蒸着処理時に固化した蒸着原料を再び一から加熱溶融させなくても済む。 - 特許庁

The carriage control unit 7 switches the substrate 5 from a passing condition of the opening part 3a to a non-passing condition, and the operation switch control unit 6 switches the operation of the first vapor deposition source 2a and the second vapor deposition source 2b in the non-passing condition.例文帳に追加

搬送制御部７は、基板５を開口部３ａを通過する通過状態から非通過状態に切り換え、作動切換制御部６は非通過状態において第１蒸着源２ａ及び第２蒸着源２ｂの作動を切り換える。 - 特許庁

To provide a coaxial arc vapor deposition source capable of maintaining optimum discharge condition.例文帳に追加

最適な放電条件を維持できる同軸型アーク蒸着源を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR SELECTING OPTIMUM CONDITION FOR EXECUTION OF AEROSOL DEPOSITION METHOD, AND FILM FORMING METHOD例文帳に追加

エアロゾルデポジション法の最適実施条件の選定方法、及び成膜方法 - 特許庁

In the film deposition process, deposition is performed under such a condition that the temperature of the substrate during deposition is controlled to be in a range from the eutectic temperature of zinc oxide and the flux to a temperature higher by 150°C or less than the eutectic temperature.例文帳に追加

成膜工程では、堆積時の基板温度を酸化亜鉛とフラックスの共晶温度以上共晶温度＋１５０℃以下の範囲に制御した条件で堆積するものである。 - 特許庁

To shorten the deposition working time as much as possible, and to improve the durability of a crucible by keeping a raw material for deposition in a molten condition even after the deposition of one batch is completed.例文帳に追加

１バッチの蒸着終了後にも蒸着原料を溶融状態に保持して、蒸着作業時間をできるだけ短縮するとともに、坩堝の耐久性を向上する。 - 特許庁

To provide an electrochromic element having high coloring efficiency at a low cost by a film-deposition technique by which high speed film-deposition is made possible and control of a film-deposition condition for forming a gap can be easily performed.例文帳に追加

高速成膜が可能であり、また空隙形成のための成膜条件制御も容易な成膜技術により、発色効率の高いエレクトロクロミック素子を低コストに提供する。 - 特許庁

A film deposition system includes: a physical quantity measurement element for measuring a physical quantity of the thin film during deposition; a comparison section for comparing the physical quantity of the thin film with the desired physical quantity; and a control section for controlling a film deposition condition and/or film deposition time based on the compared result of the comparison section.例文帳に追加

成膜装置において、成膜中の薄膜の物理量を測定する物理量測定素子と、前記薄膜の物理量と所望の物理量とを比較する比較部と、前記比較部の比較結果に基づいて成膜条件及び／または成膜時間を制御する制御部とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus suitable for depositing a mixed film or a multi-layered film formed of a plurality of materials under an optimum condition on an object for film deposition, a thin film deposition method by the apparatus, and an optical element deposited by the thin film deposition method.例文帳に追加

複数の材料から形成される混合膜や多層膜を最適な条件にて、被成膜対象物上に成膜するのに好適な薄膜形成装置、及びこの装置による薄膜形成方法、並びにこの薄膜形成方法によって成膜された光学素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film deposition apparatus suitable for depositing a mixed film or a multilayered film formed of a plurality of materials under an optimum condition on an object for film deposition, a thin film deposition method by the apparatus, and an optical element deposited by the thin film deposition method.例文帳に追加

複数の材料から形成される混合膜や多層膜を最適な条件にて、被成膜対象物上に成膜するのに好適な薄膜形成装置、及びこの装置による薄膜形成方法、並びにこの薄膜形成方法によって成膜された光学素子を提供すること。 - 特許庁

Concerning the step for forming the lamination film interference filter 306, the films 401-412 are formed by lamination through the use of a spattering method under a film deposition condition with a larger oxygen partial pressure ratio or a film deposition condition for allowing the film deposition temperature to be a room temperature or below.例文帳に追加

ここで、積層膜干渉フィルタ３０６を形成するステップでは、酸素分圧比が大きい成膜条件あるいは成膜温度を室温や低い温度にする成膜条件でスパッタリング法を用い、膜４０１〜４１２を積層形成する。 - 特許庁

To provide a sputtering apparatus capable of preventing any sputtering condition in a vacuum film deposition chamber from being fluctuated even when opening a gate valve between a supply chamber and the vacuum film deposition chamber, or a gate valve between the vacuum film deposition chamber and a delivery chamber.例文帳に追加

仕込み室と真空成膜室との間のゲートバルブ、若しくは、真空成膜室と取り出し室と間のゲートバルブを開放しても真空成膜室内のスパッタリング条件を変動させることがないスパッタリング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a copper sputtering target material for a TFT which can reduce a tensile residual stress in a copper film which has been deposited even not changing a deposition condition (pressure in deposition, gas kind used for deposition or the like), and to provide a copper film for a TFT, and a sputtering method.例文帳に追加

成膜条件（成膜中の圧力、成膜に用いるガス種等）を変更しなくても、成膜された銅膜中の引張残留応力を低減できるＴＦＴ用銅スパッタリングターゲット材、ＴＦＴ用銅膜、及びスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a salts dissolution tank in which deposition of salts is prevented from extending to the outside of the salts dissolution tank even in a condition where the deposition and crystal growth of the salts occurs on a wall surface of the salts dissolution tank.例文帳に追加

塩類溶解槽の壁面に塩類の析出および結晶成長が生じる状況でも、塩類の析出が塩類溶解槽の外へ及ばない塩類溶解槽を提供する。 - 特許庁

The highly oriented diamond film in which the crystal orientation exists is formed by a chemical vapor deposition method adopting a deposition condition such that the (001) plane of the diamond crystal grains is selectively left to the substrate 1.例文帳に追加

基板１に対してダイヤモンド結晶粒の（００１）面を選択的に残す成長条件の化学気相成長法により結晶方位が配向した高配向性ダイヤモンド膜を形成する。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area 1) that the deposition rate of the surface layer is increased with pressure buildup in a reaction container.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、反応容器内の圧力上昇に伴い該表面層の堆積速度が増加する成膜条件下（領域１）で形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition material capable of manufacturing an oxide film containing strontium and calcium under a stable condition by a physical vapor growth method such as an electron beam vapor deposition method, with low hygroscopicity.例文帳に追加

吸湿性が低く、電子ビーム蒸着法などの物理気相成長法により安定した条件でストロンチウムとカルシウムとを含む酸化物膜を製造することができる蒸着材を提供する。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area B) that the deposition rate of the surface layer is lowered with the temperature rise of conductive base substance.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、導電性基体の温度上昇に伴い表面層の堆積速度が低下する成膜条件下（Ｂ領域）で形成する。 - 特許庁

To provide a stable film quality by optimizing various deposition condition in a gas deposition method to form a film by ejecting superfine particles against a substrate via a nozzle.例文帳に追加

超微粒子をノズルを介して基板に噴射させて膜を形成するガスデポジション法において、各種成膜条件の最適化を図ることにより、安定した膜質を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing an optical fiber preform by which deposition efficiency of an external deposition method is increased and heat of a plasma torch can be exhausted in a proper condition without hindering introduction of glass powder into a plasma flame.例文帳に追加

外部堆積方法の堆積効率を増加し、プラズマ炎へのガラス粉の導入を妨害せずに適正な条件でプラズマトーチの熱を排出可能にする、光ファイバープリフォームの製造方法および装置を提供する。 - 特許庁

The surface layer of an a-C system is formed under a film deposition condition (area 2) that the deposition rate of the surface layer is lowered with the increase of high frequency applied power for generating plasma.例文帳に追加

ａ−Ｃ系の表面層を、プラズマ発生用の高周波印加電力の増加に伴い表面層の堆積速度が低下する成膜条件下（領域２）で形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing en epitaxial thin film of an oxide by which the film deposition condition can be reduced to a low temperature around room temperature and the structure of a film deposition device can be simplified.例文帳に追加

成膜条件を室温程度の低温と容易なものとし、成膜装置の構造を簡素化することのできる、酸化物エピタキシャル薄膜の作製方法を提供する。 - 特許庁

Then, the raw material for deposition in a crucible 5 is heated and heat-insulated by the irradiation of the infrared ray from an infrared ray lamp 10, and the molten condition of the raw material for deposition is kept.例文帳に追加

すると、赤外線ランプ１０からの赤外線の照射により、坩堝５内の蒸着原料を加熱保温して蒸着原料の溶融状態が保持される。 - 特許庁

Raw material gas which is used in this chemical vapor deposition is acetylene (C_2H_2), and it is supplied in a diluted condition with helium gas.例文帳に追加

この化学蒸着法の原料ガスはアセチレン（Ｃ_２Ｈ_２）ガスで、ヘリウムガスで希釈された状態で供給した。 - 特許庁

The deposition of the scale in the membrane surface of the reverse osmosis membrane 12 is observed from the membrane condition of the separation membrane 32 for observation.例文帳に追加

監視用分離膜３２の膜状態から逆浸透膜１２の膜面におけるスケールの析出を監視する。 - 特許庁

In a shelf/dry step 130, the material deposition layer is dried at a temperature lower than the melting temperature of fluororesin and is stabilized (condition D).例文帳に追加

放置・乾燥工程１３０において、材料堆積層を、フッ素樹脂の溶融温度より低い温度で乾燥し、安定化する（状態Ｄ）。 - 特許庁

Under the above charging condition, nearly uniform charging performance can be ensured at the initially set voltage even in the brand-new state and even after deposition of toner and dirt.例文帳に追加

以上の帯電条件で、当初の設定電圧のまま新品時もトナー汚れ堆積時でもほぼ均一な帯電性を確保することができる。 - 特許庁

To inexpensively provide a radiation detecting element array having a radiation sensitive layer produced on a large area and optimum deposition condition.例文帳に追加

大面積で、かつ、最適な成膜条件で作製される放射線有感層を有する放射線検出素子アレイを、低コストで提供する。 - 特許庁

A shutter 7 for separating the substrate 1 from vapor 29 until the concentration of the mist for film deposition reaches the saturated condition.例文帳に追加

基板設置部２３には、成膜用の霧の濃度が飽和状態に達するまで基板１を蒸気２９から隔離するためのシャッタ７が設けられている。 - 特許庁

At the electroless nickel plating step, such an electroless nickel plating condition that the deposition rate of nickel is low is adopted.例文帳に追加

そして、無電解ニッケルめっき工程では、ニッケルの沈着速度が遅い無電解ニッケルめっき条件を採用する。 - 特許庁

Further, the film deposition treatment of the DLC film 21 is carried out under such a condition that the temperature of the base material 3 is ≤450°C.例文帳に追加

また、ＤＬＣ被膜２１の成膜処理は、基材３の温度が４５０℃以下の条件下で行われる。 - 特許庁

To provide a film deposition method for stably depositing an excellent film having small variation of surface condition and characteristics.例文帳に追加

表面状態および特性のばらつきが小さく安定して良好な膜を成膜することができる成膜方法を提供すること。 - 特許庁

PROCESS, MASK AND AUTOMATIC SYSTEM USED FOR SETTING DEPOSITION CONDITION例文帳に追加

成膜条件の設定方法および成膜条件の設定に用いるマスクならびに自動成膜条件設定機構 - 特許庁

Then, based on the obtained specific resistance, each film deposition condition is controlled so as to make a film having the objective specific resistance.例文帳に追加

そして、求められた比抵抗に基づいて、目標とする比抵抗の被膜となるように各成膜条件を制御する。 - 特許庁

The electric potential of a metal substrate B1 is measured during the film deposition, and the blowing condition of aerosol is adjusted based on the result of measurement.例文帳に追加

成膜中に金属基板Ｂ１の電位を測定し、この測定結果に基づいてエアロゾルの吹き付け条件を調整する。 - 特許庁

In the compression step 140, the surface of the material deposition layer is compressed by a roller, and the carbon layer with smooth surface is formed (condition E).例文帳に追加

圧縮工程１４０において、材料堆積層の表面をローラにより圧縮し、表面の平滑なカーボン層を形成する（状態Ｅ）。 - 特許庁

To solve the problem that plasma can not be effectively generated except for the case where pressure is the one higher than the pressure with which the condition is made optimum in a vapor deposition process.例文帳に追加

蒸着プロセスでの最適な条件となる圧力よりも高い圧力でないと有効にプラズマを発生できない問題を解決する。 - 特許庁

To prevent a PM deposition amount from further increasing from such a condition that a large quantity of PM has accumulated in a DPF and to prevent a deterioration in running performance or the like.例文帳に追加

ＤＰＦ内に多量のＰＭ堆積量が堆積した状態から、さらに増加する量を抑制し、走行性能の悪化等を防止する。 - 特許庁

To provide a walking type mower with which traveling wheels are suitably decelerated and driven without causing a bad condition by adhesion and deposition of reaped weeds.例文帳に追加

刈草の付着堆積による不具合をもたらすことなく走行車輪を好適に減速駆動できる歩行型草刈機を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition method by which a metal nitride film in which microcracks and peeling are hard to occur even in a relatively high temperature condition can be deposited.例文帳に追加

比較的高温状態であってもマイクロクロックや剥がれが生じ難い金属窒化膜を形成することができる成膜方法を提供する。 - 特許庁

This way, the kerosene vaporizes, receiving heat in condition that there are many opportunities of contact with air, so there is no deposition of tar or the like.例文帳に追加

こうして灯油は空気との接触機会が多い状態で加熱されて気化するので、タール等の析出はない。 - 特許庁

SINTERED SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR DEPOSITION OF OPTICAL RECORDING MEDIUM PROTECTIVE LAYER, SHOWING EXCELLENT RESISTANCE TO LOSS BY FRACTURE UNDER HIGH OUTPUT SPUTTERING CONDITION例文帳に追加

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット焼結材 - 特許庁

To measure and evaluate before formation of a thin deposition film, behaviors of a weblike plastic film under various conditions in vacuum inside a film testing machine in the weblike plastic film formed thereon with the thin deposition film by a chemical vapor deposition method(CVD) or the like, grasp the optimum film-forming condition based on a measuered result provided by the testing machine, and form the stable thin deposition film.例文帳に追加

化学気相成長法（ＣＶＤ）等により蒸着薄膜を成膜させるウェブ状プラスチックフイルムを薄膜形成前に、フイルム試験機内で真空中の各種条件下でのフイルムの挙動を測定、評価出来るようにし、該フイルム試験機で得られた測定結果を基に成膜の最適条件を把握し、安定した蒸着薄膜を形成させることを可能にすることである。 - 特許庁

In this manufacturing method of the catalyst for a fuel cell, a conductive carrier (carbon for example) is made to carry the catalyst metal (platinum for example) preferably under a deflected magnetic field condition by vacuum arc deposition by means of a vacuum arc plasma deposition source (preferably a coaxial deposition source) using the catalyst metal as a vapor deposition material.例文帳に追加

触媒金属を蒸着材料とした真空アークプラズマ蒸着源（好ましくは同軸型蒸着源）による真空アーク蒸着によって導電性を有する担体（例えばカーボン）に触媒金属（例えば白金）を、好ましくは偏向磁場条件下で、担持させることを特徴とする燃料電池用触媒の製造方法。 - 特許庁