direct nitridingとは 意味・読み方・使い方

To produce high-purity silicon nitride fine powder by a direct nitriding method.例文帳に追加

高純度の窒化ケイ素微粉末を直接窒化法によって製造する。 - 特許庁

A second stopper film 20 also is formed by the direct nitriding similar to the case of the barrier layer 25.例文帳に追加

ここで、第２ストッパ膜２０も、バリヤ層２５と同様の直接窒化により形成されている。 - 特許庁

To efficiently manufacture a high α-type silicon nitride fine powder having excellent sintering property for a short period of time by a direct nitriding method.例文帳に追加

短時間に効率よく焼結性の良好な高α型窒化ケイ素微粉末を直接窒化法によって製造する。 - 特許庁

A silicon nitride film 5 exhibiting a high oxidation barrier characteristic is formed selectively on the surface of a silicon substrate 1 by subjecting the substrate 1 to a direct thermal nitriding process or the like.例文帳に追加

シリコン基板表面に選択的に酸化バリア性の高いシリコン窒化膜をシリコン基板の直接熱窒化等で形成する。 - 特許庁

To provide a highly heat-conductive aluminum nitride sintered compact at a low cost by a direct nitriding method using an AlN raw material powder containing a large amount of distortion, dislocation or sub-grain boundary.例文帳に追加

直接窒化法による、歪みや転位あるいは亜粒界の量が多いＡｌＮ原料粉末を用いて、高熱伝導性の窒化アルミニウム焼結体を安価に提供する。 - 特許庁

To produce high purity silicon nitride powder which is suitable for electronic parts such as an implement for a semiconductor, a circuit board by a direct nitriding method with excellent mass-productivity.例文帳に追加

半導体用冶具や回路基板等の電子部品の用途として好適な高純度窒化ケイ素粉末を、量産性に優れる直接窒化法によって製造すること。 - 特許庁

Direct nitriding of a silicon oxide film which uses RLSA type plasma treating equipment is applied to side walls of the connection hole 21 and the second trench 23, and a barrier layer 25 composed of an SiN film is formed.例文帳に追加

さらに、接続孔２１および第２の溝２３の側壁に、ＲＬＳＡ型のプラズマ処理装置を用いたシリコン酸化膜の直接窒化を施し、ＳｉＮ膜からなるバリヤ層２５を形成する。 - 特許庁