electron beam machineとは 意味・読み方・使い方

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHIC METHOD AND MACHINE, AND MARK RECORDING METHOD例文帳に追加

電子線描画方法およびその装置並びにマーク記録方法 - 特許庁

To provide an electron beam machine in which a cycle time can be reduced.例文帳に追加

サイクルタイムを短縮することができる電子ビーム加工機を提供すること。 - 特許庁

Further, a pattern is drawn with electron beams by using a high acceleration voltage electron beam drawing machine, and then treated for patterning such as by developing to produce a photomask.例文帳に追加

さらに、高加速電圧の電子ビーム描画機で電子ビーム描画し、現像等のパターニング処理を施してフォトマスクを作製する。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

After the heat treatment, the mask blank is conveyed into an electron beam lithography machine 102 being in a vacuum state, through a conveyance chamber 106 kept in a vacuum state, and a pattern is drawn on the mask blank in the electron beam lithography machine 102.例文帳に追加

熱処理後には、マスクブランクを真空状態に保持された搬送チャンバ１０６内を通して真空状態にある電子線描画機１０２内に搬送し、この電子線描画機１０２内でパターンを描画する。 - 特許庁

To provide an electron source used for a scanning or transmission electron microscope, a surface analyzer such as an Auger electron spectroscope, an electron beam exposure machine, in particular, a scanning electron microscope used at low acceleration where an acceleration voltage of an electron beam is not higer than 1kV, or a semiconductor wafer inspection device such as a CD SEM or a DRSEM.例文帳に追加

走査型又は透過型電子顕微鏡、オージェ電子分光装置等の表面分析装置、電子線露光機、特に、電子ビームの加速電圧が１ｋＶ以下の低加速で用いられる走査型電子顕微鏡、ＣＤ ＳＥＭ、ＤＲＳＥＭ等の半導体ウェハ検査装置に用いられる電子源を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding.例文帳に追加

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。 - 特許庁

To provide a local vacuum chamber for a portable electron beam welding machine in which a vacuum pump is miniaturized, the local vacuum chamber is slidable while maintained at high vacuum, and the continuous electron beam welding is possible without any limitation to length of a welding material.例文帳に追加

真空ポンプを小型化し、局部真空室を高真空に保ちつつ摺動可能であり、溶接材の長さに制限なく連続的な電子ビーム溶接を可能とする。 - 特許庁