電子ビーム加工機の英語

電子ビーム加工機１は，被加工物８を収容した加工室２１又は２２へ電子銃２３が移動している間に，当該加工室２１又は２２の真空引きを開始できるよう構成してある。例文帳に追加

In the electron beam machine 1, while the electron gun 23 is moved to the machining chamber 21 or 22 storing the machining object 8, evacuation of the machining chamber 21 or 22 can be started. - 特許庁

パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。例文帳に追加

To provide an electron beam processing machine that can make a pulse beam to high frequency and optionally control a maximum or minimum value of the pulse beam, thereby allowing high quality welding. - 特許庁

スクリーン画面中央周辺の継ぎ目部分が目立たないように電子ビームを必要な領域のみに照射できて、加工が容易な電子ビーム位置検出機構及び陰極線管を提供する。例文帳に追加

To provide an electron beam position detecting mechanism and a cathode-ray tube that can irradiate only a necessary region with an electron beam so as to obscure a seam portion about the center of a screen plane, and are easy to fabricate. - 特許庁

識別機能を備えたＴＥＭ試料及びＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置並びに透過型電子顕微鏡例文帳に追加

TEM SAMPLE WITH IDENTIFICATION FUNCTION, TEM SAMPLE-PROCESSING FOCUSED ION BEAM DEVICE AND TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE - 特許庁

加工物を機械的に傾斜や移動させることなく、しかも１個の２次電子検出器を用いてでも、ビーム加工中の３次元形状をインラインで高精度に測定することができ、高精度なナノ３次元造型を実施できる集束イオンビーム加工方法と装置を提供する。例文帳に追加

To provide a focusing ion beam working method and a device wherein a three-dimensional shape at beam working can be measured in an in-line system with a high precision, and nano three-dimensional casting mold with the high precision can be carried out without slanting or moving a worked object mechanically, and even if one secondary electron detector is used. - 特許庁

加工室を設けた特殊環境下で被加工物の加工・処理を行う電子ビーム照射装置や工作機械などの加工テーブル上に配置される複数の付属装置の軸駆動を好適に切り替えて行なえるようにする軸駆動機構を提供する。例文帳に追加

To provide an axis driving mechanism, suitably switching and performing axis drive of a plurality of attachments disposed on a machining table of an electronic beam irradiation device or a machine tool for machining and treating a workpiece in a special environment where a machining room is provided. - 特許庁

微小立体構造バイオナノツールの製造方法において、電子計算機を利用して設計した微小立体構造物の三次元モデルデータに基づき、ビームの照射位置、照射時間を決定し、集束イオンビームによりガラスキャピラリーの先端部の切断加工を行う。例文帳に追加

In this manufacturing method for the micro space structure bio-nano tool, a beam irradiation position and an irradiation time are determined based on three-dimensional model data designed by using a computer and the front end of a glass capillary is cut by a focused ion beam. - 特許庁

走査型電子顕微鏡装置と集束イオンビーム装置との共用試料ホルダーは、電子線後方散乱パターン計測機能を有した走査型電子顕微鏡装置と、マイクロサンプリング機能を装備した集束イオンビーム装置とに装着可能で、試料の載せ替え作業をせずに結晶方位解析とマイクロサンプリング加工が可能であることを特徴とする。例文帳に追加

The common sample holder for a scanning electron microscope device and a focused ion beam device is set mountable on a scanning electron microscope device with an electron beam backscatter pattern measurement function and on a focused-ion beam device with a microsampling function, and enables a crystal orientation analysis and microsampling, without having to remount a sample. - 特許庁