electron transfer processとは 意味・読み方・使い方

Therefore, a process to apply etchback to the hole transfer layer 14 and the electron transfer layer 16 is cut.例文帳に追加

従って、ホール輸送層１４や電子輸送層１６をエッチバックする工程が削減される。 - 特許庁

To improve the performance of electron transfer and to make lithography process steps advantageous by raising an aluminum {111} content of a barrier layer.例文帳に追加

電子移動の性能を改善しまたリソグラフィープロセスステップを有利にする目的で、バリア層のアルミニウムの｛１１１｝含有率を上げる。 - 特許庁

In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加

一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにＯＰＣパタン付加する処理過程あるいはＯＰＣ付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁

Using this reticle, the sensitive substrate is subjected to a primary light exposure process by the use of a self-projection or split transfer-type electron beam projection exposure system.例文帳に追加

そして、このレチクルを用いて、セルプロジェクション又は分割転写方式の電子線投影露光装置を用いて感応基板に一次露光を行う。 - 特許庁

To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加

コンプリメンタリーマスクで構成されるＥＢ（電子線）転写マスクデータの作成において、ＥＢ転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なＥＢ転写マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a mask layout forming method for an electron beam exposure for reducing generated slivers when a fracture process is implemented so as to transfer a layout including a diagonal line pattern on a photomask.例文帳に追加

斜線パターンを含むレイアウトをフォトマスク上に転写するためにフラクチャー過程を行うとき、スライバーの発生を減少できる電子ビーム露光のためのマスクレイアウト形成方法を提供する。 - 特許庁

The sterilizer monitors the generation state of an electron ray, the scanning state with the electron ray, the transfer state of a cap 200, and the rotation state of a cap 200 for surely eliminating an abnormal cap 200 when the abnormal condition occurs during a cap sterilization process.例文帳に追加

電子線の発生状態、電子線のスキャン状態、キャップ２００の搬送状態、キャップ２００の回転状態をモニタリングすることで、キャップ２００の殺菌工程において何らかの異常が生じた場合には、該当するキャップ２００を不良品として確実に排除する。 - 特許庁