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electron transfer processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
Therefore, a process to apply etchback to the hole transfer layer 14 and the electron transfer layer 16 is cut.例文帳に追加
従って、ホール輸送層14や電子輸送層16をエッチバックする工程が削減される。 - 特許庁
To improve the performance of electron transfer and to make lithography process steps advantageous by raising an aluminum {111} content of a barrier layer.例文帳に追加
電子移動の性能を改善しまたリソグラフィープロセスステップを有利にする目的で、バリア層のアルミニウムの{111}含有率を上げる。 - 特許庁
In the electron beam lithography method, aperture identification data for cell transfer are included in the data processed, in a process of adding an OPC pattern to a designed pattern or converting a designed pattern with an OPC pattern into the lithography data characteristic of the electron beam lithography system, by incorporating aperture data information for cell transfer in the process by applying a cell projection type electron beam lithography method.例文帳に追加
一括露光方式の電子ビーム描画方式を適用し、設計パタンにOPCパタン付加する処理過程あるいはOPC付きの設計パタンを描画装置固有の描画データに変換する過程に、一括転写用アパーチャデータ情報を組み込み、上記過程で処理されたデータ内に一括転写用アパーチャ識別データを含ませる。 - 特許庁
Using this reticle, the sensitive substrate is subjected to a primary light exposure process by the use of a self-projection or split transfer-type electron beam projection exposure system.例文帳に追加
そして、このレチクルを用いて、セルプロジェクション又は分割転写方式の電子線投影露光装置を用いて感応基板に一次露光を行う。 - 特許庁
To provide an EB (electron beam) transfer mask which can be easily manufactured and which can suppress deterioration in the accuracy of drawing a pattern due to the spatial charge effect, resist heating or the like caused during the EB transfer in the process of forming an EB transfer mask data composed of complementary masks.例文帳に追加
コンプリメンタリーマスクで構成されるEB(電子線)転写マスクデータの作成において、EB転写の際における空間電荷効果やレジストヒーティング等に起因する描画精度劣化を抑制し、かつ容易に製造可能なEB転写マスクを提供する。 - 特許庁
To provide a mask layout forming method for an electron beam exposure for reducing generated slivers when a fracture process is implemented so as to transfer a layout including a diagonal line pattern on a photomask.例文帳に追加
斜線パターンを含むレイアウトをフォトマスク上に転写するためにフラクチャー過程を行うとき、スライバーの発生を減少できる電子ビーム露光のためのマスクレイアウト形成方法を提供する。 - 特許庁
The sterilizer monitors the generation state of an electron ray, the scanning state with the electron ray, the transfer state of a cap 200, and the rotation state of a cap 200 for surely eliminating an abnormal cap 200 when the abnormal condition occurs during a cap sterilization process.例文帳に追加
電子線の発生状態、電子線のスキャン状態、キャップ200の搬送状態、キャップ200の回転状態をモニタリングすることで、キャップ200の殺菌工程において何らかの異常が生じた場合には、該当するキャップ200を不良品として確実に排除する。 - 特許庁
The electrophotographic photoreceptor which has a photosensitive layer and a protective layer on a conductive substrate, has the protective layer containing a curable resin having ≥2 chain polymerizable functional group within the same molecule and having a hole transfer function and conductive particles and is formed with the protective layer by curing the curable resin by irradiation with electron beams, the process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and the electrophotographic device.例文帳に追加
導電性支持体上に感光層及び保護層を有する電子写真感光体において、該保護層が同一分子内に2つ以上の連鎖重合性官能基を有する正孔輸送機能を有する硬化性樹脂及び導電性粒子を含有しており、該硬化性樹脂の硬化を電子線照射により行うことを特徴とする電子写真感光体、その電子写真感光体を有するプロセスカートリジ及び電子写真装置。 - 特許庁
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