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electroplating systemとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 電気めっき装置
「electroplating system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 21件
To provide a copper plating system and a copper plating method for performing high-accuracy electroplating, and recovering and reusing copper ions from electroplating liquid after electroplating to reduce a production cost.例文帳に追加
高精度の電解メッキが可能であり、電解メッキ後の電解メッキ液から銅イオンを回収して再利用し生産コストを低減する。 - 特許庁
To provide an aqueous electroplating bath for electroplating of a palladium alloy in a mixed ligand system.例文帳に追加
混合配位子系におけるパラジウム合金の電気メッキのための水成の電気メッキ浴を提供する。 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR ELECTROPLATING FLEXIBLE SUBSTRATE例文帳に追加
可撓性気体の電気めっきシステムおよび方法 - 特許庁
To provide a fluid feed system having specific applications to electroplating.例文帳に追加
電気めっきに特定の応用を有する流体送給システムを提供する。 - 特許庁
METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD AND SYSTEM OF ELECTROPLATING例文帳に追加
半導体装置の製造方法、電解めっき方法および電解めっき装置 - 特許庁
SYSTEM AND METHOD FOR ENHANCING IN-SITU ELECTROLESS COPPER SEED LAYER IN ELECTROPLATING SYSTEM例文帳に追加
電気めっきシステムにおいて原位置無電解銅シード層を強化するシステム及び方法 - 特許庁
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「electroplating system」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 21件
An electroplating system 10 for forming a conductive layer on a workpiece 12 is explained.例文帳に追加
ワークピース12上に導電体層を形成するための電気メッキ・システム10を説明する。 - 特許庁
COPPER PLATING SYSTEM AND COPPER PLATING METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTROPLATING LIQUID例文帳に追加
銅メッキシステム並びに銅メッキ方法及び電解メッキ液の製造方法 - 特許庁
The method for electroplating in a reel to reel system is characterized by transferring a shielding plate 7 having flexibility, in parallel to and at about the same speed as the above substrate 4 in a reel to reel system or in an endless system, while electroplating.例文帳に追加
、リールトゥリール方式で電気めっき方法において、可撓性を持つ遮蔽板7をリールトゥリール方式で、又はエンドレス方式で、前記基材4とほぼ同じ速度で、並行して移動しながら電気めっきを行う電気めっき方法。 - 特許庁
The system gives a protective coating on the base body to minimize the oxidation to allow the transfer from the electroless plating process to the electroplating process.例文帳に追加
システムは、これも酸化を最小にするために基体に保護被覆を施して無電解めっきプロセスから電気めっきプロセスまで転送できる。 - 特許庁
To provide a small-sized electroplating system by which the uniformity of a plated film is improved and the release of alkali mist or the like is suppressed.例文帳に追加
メッキ膜の均一性を向上しつつアルカリミスト等の放出を抑制し、小型化された電気メッキシステムを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for measuring continuously and simply a COD concentration in COD-including waste water discharged from an electroplating facility for applying tin plating to a steel plate strip, and to provide a management system of electroplating facility waste water utilizing the method.例文帳に追加
鋼板のストリップにスズメッキを行う電気メッキ設備から排出されるCOD含有廃水中のCOD濃度を、連続的、簡易に測定する方法および同方法を利用する電気メッキ設備廃水の管理システムを提供する。 - 特許庁
The electroplating device comprises: an anode 134; a reference electrode 140 formed on the surface of a substrate and composing a three electrode system with an electrically conductive layer to form into a cathode in the case of electroplating; and a potentiostat 144 of controlling the cathode potential of the electrically conductive layer with the potential of the reference electrode 140 as a reference.例文帳に追加
アノード134と、基板の表面に形成されめっきの際にカソードとなる導電層との間で三電極系を構成する参照電極140と、導電層のカソード電位を参照電極140の電位を基準として制御するポテンショスタット144を有する。 - 特許庁
Finally, a solder material is formed in the opening by an electroplating system, and the resist layer and the metal seed layer below the resist layer are removed.例文帳に追加
最後に電気メッキ方式でソルダ材料を開口内に形成し、上述のレジスト層及びその下のメタルシード層を除去し、基板上でソルダ電気めっきを完成する。 - 特許庁
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