energy development areaとは 意味・読み方・使い方

Furthermore, we will use ERIA to promote the development of a stable supply of energy and responses to environmental challenges in the area of coal policies throughout Asia.例文帳に追加

また、ERIAを活用し、石炭政策におけるアジア大のエネルギー安定供給・環境問題への対応を推進する。 - 経済産業省

This area gradation image forming method for subjecting the silver halide photosensitive material having silver halide emulsion layers on a base to development processing after scanning exposure at either of the exposure energy level of at least dot parts and the exposure energy level of cleaning parts is characterize in that the exposure energy level of clearing parts is set at the exposure energy of ≥1/2 of the threshold at which development occurs.例文帳に追加

支持体上にハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀感光材料を少なくとも１つの網点部の露光量レベルとヌケ部の露光量レベルのいずれかで走査露光後現像処理する面積階調画像形成方法において、ヌケ部の露光量レベルを現像の起こる閾値の１／２以上の露光量とする事を特徴とする面積階調画像形成方法。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive planography printing plate having sufficient durability in printing without deteriorating the property of development sufficient even in the exposing condition where irradiation energy per unit area is small, having high productivity, and being particularly suitable for a drawing process using a laser beam.例文帳に追加

単位面積当たりの照射エネルギーが少ない露光条件においても現像性を損なうことなく充分な耐刷性を与え、高い生産性を有し、特にレーザー光による描画に適したネガ型感光性平版印刷版を提供する。 - 特許庁

Since the development bias and the energy density of the light beam are individually optimized on the basis that a photoreceptor body is provided with an asymptotic area, parameters (image formation conditions) are made able to be individually set to respective optimum conditions.例文帳に追加

感光体が漸近領域を有することに基づき現像バイアスおよび光ビームのエネルギー密度を個別に最適化するように構成しているので、パラメータ（画像形成条件）について個別に、しかもそれぞれの最適条件に設定することが可能となっている。 - 特許庁

To provide a pattern drawing method for accurately correcting the dimension difference of pattern roughness and fineness by development loading, by adjusting an irradiation energy amount using a relational expression of a pattern area density and a dimension variation amount or a reference table in addition to a circuit pattern density distribution inside a photomask surface.例文帳に追加

フォトマスク面内の回路パターン密度分布に加え、パターン面積密度と寸法変動量の関係式あるいは基準テーブルを用いて照射エネルギー量を調整することで、現像ローディングによるパターン疎密の寸法差を精度良く補正するパターン描画方法を提供する。 - 特許庁