ethyl iodideとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR PRODUCING HIGHLY PURE PERFLUOROALKYL- DI(ETHYL IODIDE) AND METHOD FOR PRODUCING COLORLESS PERFLUOROALKYLDIETHYLENE.例文帳に追加

高純度パーフルオロアルキル−ジ（エチルアイオダイド）の製造方法および着色のないパーフルオロアルキルジエチレンの製造方法 - 特許庁

There are provided: (Endo)-3-(2-cyano-2,2-diphenyl-ethyl)-8,8-dimethyl-8-azonia-bicyclo[3.2.1]octane bromide; (Endo)-3-(2-cyano-2,2-diphenyl-ethyl)-8,8-dimethyl-8-azonia-bicyclo[3.2.1]octane iodide; and methods of using them.例文帳に追加

（エンド）−３−（２−シアノ−２，２−ジフェニル−エチル）−８，８−ジメチル−８−アゾニア−ビシクロ［３．２．１］オクタン臭化物および（エンド）−３−（２−シアノ−２，２−ジフェニル−エチル）−８，８−ジメチル−８−アゾニア−ビシクロ［３．２．１］オクタンヨウ化物ならびにその使用法を提供する。 - 特許庁

(End)-3-(2-cyano-2,2-diphenyl-ethyl)-8,8-dimethyl-8-azoniabicyclo[3.2.1]octane bromide and (end)-3-(2-cyano-2,2-diphenyl-ethyl)-8,8-dimethyl-8-azoniabicyclo[3.2.1]octane iodide, and the use thereof are provided.例文帳に追加

（エンド）−３−（２−シアノ−２，２−ジフェニル−エチル）−８，８−ジメチル−８−アゾニア−ビシクロ［３．２．１］オクタン臭化物および（エンド）−３−（２−シアノ−２，２−ジフェニル−エチル）−８，８−ジメチル−８−アゾニア−ビシクロ［３．２．１］オクタンヨウ化物ならびにその使用法を提供する。 - 特許庁

Disclosed are a method of preparing an ethyl halide substituted with a fluorine-containing alkyl characterized by reducing a vinyl halide substituted with a fluorine-containing alkyl in the presence of a catalyst comprising at least one species of metal selected from palladium and rhodium (a reducing step), and a method of preparing an ethyl iodide substituted with a fluorine-containing alkyl by iodizing the compound prepared above (an iodizing step).例文帳に追加

含フッ素アルキル置換ビニルハライドをパラジウムまたはロジウムより選ばれる少なくとも一種の金属を含む触媒存在下、水素で還元することを特徴とする含フッ素アルキル置換エチルハライド類の製造方法（還元工程）および、これをヨウ素化することによる含フッ素アルキル置換エチルヨード類の製造（ヨウ素化工程）。 - 特許庁

The fuchsine chromophoric dye stabilized by addition of steric hindrance group(s) for protecting the iminocarbon atom is provided; wherein non-limiting illustrations of the steric hindrance group include phenyl, methyl, ethyl, isopropyl, fluoride, chloride, bromide and iodide.例文帳に追加

イミノ炭素を保護するために立体障害基を付加することで安定化されたマゼンタ発色団染料であり、立体障害基の非限定的な例示は、フェニル、メチル、エチル、イソプロピル、フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化物の基である。 - 特許庁

In the laser processing method of removing the residual defect of the photomask, the substrate is set so as to make its surface to be processed face downward, and the surface of the substrate is irradiated with a laser beam from below in an atmosphere containing halogenated hydrocarbon gas (e.g. ethyl iodide gas) to remove the residual defect.例文帳に追加

フォトマスクの残留欠陥をレーザ加工法によって除去するレーザ加工方法において、被加工面を下向きにして、下方からレーザ光を照射する構成として、ハロゲン化炭化水素ガス（一例として沃化エチルガス）を含む雰囲気中でレーザ光を照射して、残留欠陥の除去を行う。 - 特許庁