hydrofluoric acid etchingとは 意味・読み方・使い方

This reaction rate limiting type etching is executed with an acid etching liquid containing hydrofluoric acid and nitric acid, and further containing acetic acid.例文帳に追加

反応律速型エッチングはフッ酸及び硝酸を含む酸エッチング液により行われ、酢酸を更に含む。 - 特許庁

The etching is carried out by using a mixture acid of hydrofluoric acid and nitric acid and preferably to an etching amount (thickness to be removed) of at least 1 μm.例文帳に追加

フッ酸と硝酸の混酸を用い、エッチング量（除去厚さ）を１μｍ以上とすることが望ましい。 - 特許庁

To provide a method capable of obtaining a concentration of a hydrofluoric acid as a whole including the hydrofluoric acid from a fluorophosphoric acid and concentrations of the fluorophosphoric acid and a phosphoric acid in the method for analyzing a mixed acid liquid in an etching process including the hydrofluoric acid, the phosphoric cid and the fluorophosphoric acid.例文帳に追加

フッ酸とリン酸とフルオロリン酸とを含むエッチングプロセスにおける混酸液の分析方法であって、フルオロリン酸からのフッ酸をも含めた全体としてのフッ酸の濃度とフルオロリン酸およびリン酸の各濃度を求めることが出来る方法を提供する。 - 特許庁

This etching agent consists of an aq. soln. contg. potassium peroxymonosulfate monohydrogen and hydrofluoric acid.例文帳に追加

ペルオキソ一硫酸一水素カリウムとフッ酸を含有する水溶液からなるエッチング剤。 - 特許庁

Thereafter, the wafers 22 are dipped in a BHF (buffered hydrofluoric acid) bath 3 for formal etching.例文帳に追加

その後、本エッチング用のＢＨＦ（バッファード・フッ酸）槽３に漬浸される。 - 特許庁

An etching rate of an undercoat layer 4 to hydrofluoric acid is made to be lower than that of a glass substrate 3.例文帳に追加

アンダーコート層４のフッ酸に対するエッチングレートをガラス基板３より遅くする。 - 特許庁

Finally, the oxide film is removed by wet etching with hydrofluoric acid thus obtaining through holes (Fig. (E)).例文帳に追加

次に、酸化膜を沸酸にてウェット除去して貫通口を得る（図１（Ｅ））。 - 特許庁

The substrate is subsequently subjected to deep etching surface-treatment with 15% HF (hydrofluoric acid).例文帳に追加

次に、１５％ＨＦ（フッ酸）でディープエッチング表面処理をおこなった。 - 特許庁