immersion techniqueとは 意味・読み方・使い方

To provide a technique for improving throughput, and the manufacturing yield of a semiconductor device in a immersion projection exposure technique using an F_2 laser.例文帳に追加

Ｆ_２レーザを用いた液浸投影露光技術において、スループットの向上および半導体装置の製造歩留まりを向上することができる技術を提供する。 - 特許庁

A substance (e.g. a coating material, a culture medium, an organic or inorganic chemical, or a natural extract) having been made easily flowable is impregnated by a technique such as immersion, permeation, or vacuum into the pores of a porous metal-sintered compact made by a powder-metallurgical technique.例文帳に追加

粉末冶金の手法により製造した、多孔質の金属焼結体の空孔部分へ流動しやすく加工した塗料、培地、有機、無機の化学品、天然抽出物等を浸漬、浸透、真空などの手法で含浸させる。 - 特許庁

Solutions are described for adoption of immersion lithography technique into the optical maskless lithography, and in particular, the present invention provides one or more solutions to reduce time when a liquid for liquid immersion exposure is in contact with prescribed part of a top surface of the substrate during imaging.例文帳に追加

マスクレス光リソグラフィに液浸リソグラフィ技術を採用する場合の解決法を説明し、特に、像形成中に液浸露光用の液体が基板上面の所定部分に接触する時間を減少させる１つ以上の解決法を提供する。 - 特許庁

To develop a technique which prevents molten steel from picking up nitrogen by infiltration of the nitrogen in the atmosphere air from the outside of an immersion pipe of a degassing treatment device when melting extra-low nitrogen steel.例文帳に追加

極低窒素鋼を溶製するに際し、大気中窒素が脱ガス処理装置の浸漬管外部から侵入し、溶鋼が窒素をピックアップするのを防止する技術を開発する。 - 特許庁

To provide a particle removal technique wherein in an immersion type substrate processing apparatus the working load of an operator is light and an apparatus operation rate is not lowered.例文帳に追加

浸漬型の基板処理装置において、オペレータの作業負担が軽く、装置稼動率を低下させることもないパーティクル除去技術を提供する。 - 特許庁

To provide a F_2 resist composition suitable for the liquid immersion lithography process which is a new lithography technique, and a resist pattern forming method using this F_2 resist composition.例文帳に追加

新たなリソグラフィー技術である液浸露光プロセスに用いて好適なＦ_2レジスト組成物と、このＦ_2レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a rational adherend removing technique capable of simply and certainly removing the adherend on a wastewater immersion member immersed in wastewater in a wastewater treatment apparatus for treating wastewater.例文帳に追加

排水の処理を行う排水処理装置において、排水中に浸漬される排水浸漬部材に付着した付着物を簡便かつ確実に除去することができる合理的な付着物除去技術を提供する。 - 特許庁

To provide an immersion lithography technique capable of removing influence of atmospheric pressure variation and dissolved gas variation of a factory facility, and of preventing micro-bubbles due to the dissolved gas and degradation of optical performance.例文帳に追加

大気圧変動や工場設備の溶存ガス変動の影響を除去し、溶存ガスによるマイクロバブルや光学性能の劣化を防ぐことができる液浸露光技術の実現。 - 特許庁