induced defectとは 意味・読み方・使い方

To realize an evaluation device for measuring the defective state of a defect of a semiconductor device identified based on optical beam induced current (OBIC) phenomenon or the like or the state of a minute area surface including the defect.例文帳に追加

ＯＢＩＣ現象等に基づいて同定した半導体デバイスの欠陥の欠損状態や、欠陥を含む微小領域表面の状態などを測定する評価装置を実現する。 - 特許庁

The insulating film 53 is of III nitride thin film structure, so that an interface between the insulating film 53 and the III nitride thin films 52 and 54 is never disordered, and no defect is induced.例文帳に追加

絶縁膜５３がIII族窒化物薄膜の構造であるので、絶縁膜５３とIII族窒化物薄膜５２、５４の界面が乱れず、欠陥が生じない。 - 特許庁

To provide a developing method for suppressing the occurrence of a precipitation-induced defect in a developing process, changes in a CD or dissolution of a resist pattern caused by a rinsing liquid.例文帳に追加

現像処理における析出系欠陥の発生、ＣＤ変動、リンス液によるレジストパターンの溶解を抑制する現像処理方法を提供する。 - 特許庁

Since birefringence can be induced within the defect part because of the electro-optical effect when terahertz light impinges, the birefringence is measured to be able to defect whether terahertz light has impinged or not.例文帳に追加

テラヘルツ光が入射されると、電気光学効果によって欠陥部内に複屈折を誘起させることができるから、複屈折率を測定すれば、テラヘルツ光が入射したか否かを検出することができる。 - 特許庁

By presenting the obtained judging result to an observer, the system points out a human-induced defect in diagnostic imaging, and records the judging result in a report etc.例文帳に追加

得られた判定結果を観察者に提示することで、当該装置が画像診断における人為的不備を指摘し得ると共に、当該判定結果をレポート等に記録する。 - 特許庁

A piercing discrimination means 11, which generates an action defect signal when a voltage level of the induction voltage induced to the coil does not reach a prescribed level, is additionally provided.例文帳に追加

このコイルに誘起された誘起電圧の電圧レベルが所定レベルに到達しない場合に動作不良信号を発生する穴あけ判断手段１１を付属させる。 - 特許庁

To provide a method for evaluating a crystal defect of a silicon wafer, by which only an etch pit of an OSF (Oxidation-induced Stacking Fault) is detected by selective etching and an OSF can be accurately determined.例文帳に追加

選択エッチングによりＯＳＦのエッチピットのみを検出し、ＯＳＦを正確に判別することができるシリコンウェーハの結晶欠陥評価方法を提供する。 - 特許庁

To moderate a defect induced by an immersion liquid in an immersion lithography projection apparatus where a liquid removal system surrounds a liquid supply system for providing liquid to a space between a projection system and a substrate.例文帳に追加

液体除去システムが投影システムと基板の間の空間に液体を提供する液体供給システムを囲む、液浸リソグラフィ投影装置において、液浸液により誘起される欠点を緩和する。 - 特許庁