material processing in spaceとは 意味・読み方・使い方

A material carry-in device 7, carrying a material W into the plate processing machine 1, and a loader 11, equipped with a clamp 65 for carrying out skelton which is used for clamping skelton after being fabricated, are freely travelably installed between the plate processing machine 1 and the skelton space 3 and material space 5.例文帳に追加

素材Ｗを板材加工機１へ搬入する素材搬入用装置７と加工後のスケルトンをクランプするスケルトン搬出用クランプ６５を備えたローダ１１が板材加工機１とスケルトン置き場３と素材置き場５の間に走行自在に設けられる。 - 特許庁

To miniaturize an image forming device provided with a sheet material processing device in a space part in the image forming device body.例文帳に追加

画像形成装置本体内の空間部にシート材後処理装置を備えている画像形成装置を小型化する。 - 特許庁

Coordinate positions of the coloring material in a substrate are found in a plurality of concentrations, in a prescribed three-dimensional color space, and display processing indicating a change of the coordinate position with respect to a concentration change of the coloring material is executed in the each coloring material in the three-dimensional color space.例文帳に追加

所定の立体色空間において、下地における色材の座標位置をその色材の複数の濃度に対して求めて、立体色空間にその色材の濃度変化に対する座標位置の変化を示す表示処理を各色材に対して行う。 - 特許庁

The electrode 31 of the plasma processing device is extended in a direction perpendicular to the direction extending from a plasma space 30a to a base material W.例文帳に追加

プラズマ処理装置の電極３１は、プラズマ化空間３０ａから基材Ｗへ向かう方向とは直交する方向に延びている。 - 特許庁

To provide a photosensitive material processor which easily copes with a defect in conveyance, etc., that a photosensitive material encounters while speedily processing the photosensitive material and saving the space.例文帳に追加

感光材料の迅速処理及び省スペース化を図りつつ、感光材料が搬送不良等を生じた際の対処を容易に行える感光材料処理装置を提供すること。 - 特許庁

Thereby, when the sheet material is loaded on the product pallet 7 after processing, the moving space of the lateral direction of the fork 18 can be ensured in the moving space of the vertical direction of the pallet elevator 5.例文帳に追加

これによれば、加工後板材を製品パレット７に載せる際に、フォーク１８の横方向の移動空間をパレットエレベータ５の上下方向の移動空間内に確保することができる。 - 特許庁

A method and system for vapor deposition on a substrate that disposes a substrate in a process space of a processing system that is isolated from a transfer space of the processing system, processes the substrate at either of a first position or a second position in the process space while maintaining isolation from the transfer space, and deposits a material on the substrate at either the first position or the second position.例文帳に追加

基板上の蒸着のための方法およびシステムであって、処理システムの移送空間から分離（アイソレーション）された処理システムの処理空間に基板を配置し、移送空間から分離が維持されている間、処理空間の第１の位置または第２の位置のいずれかで基板を処理し、前記第１の位置または第２の位置のいずれかで前記基板に材料を堆積させる。 - 特許庁

To control a processing operation, which is executed for a recording material when the recording material arrives after having passed through a conveyance path having a space between neighboring nip portions in a thickness direction of the recording material so that the recording material can bend, regardless of kinds of the recording material and at precise timing.例文帳に追加

隣り合うニップ部間に記録材が撓むことができるように記録材の厚み方向に空間が取られた搬送路を通過した後の記録材に対して当該記録材の到達に合わせて実行される処理動作を、記録材の種類によらず、正確なタイミングで制御する。 - 特許庁