mechanical defectとは 意味・読み方・使い方

To provide an ultrasonic probe device, capable of detecting a small defect 5 existing in a mechanical part or a test piece 4 which is a material for the mechanical part, by enhancing a sensitivity of the ultrasonic probe 1.例文帳に追加

超音波探触子１を高感度化することにより、機械部品や機械部品用の素材である試験片４に存在する小さな欠陥５を検出できる超音波探触子を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch).例文帳に追加

被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥（スクラッチ）の低減を両立させることができる化学機械研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide a weld defect detection system with which a welded product not including a part deteriorated in mechanical properties in a weld zone can be obtained.例文帳に追加

溶接部に機械的特性の低下部分を含まない溶接製品を得ることを可能ならしめる溶接欠陥検出システムを提供する。 - 特許庁

To eliminate the defect that the mechanical deformation is made on both boards when connected two electrodes are damaged at the same time.例文帳に追加

接合された２つの電極が同時に破損してしまうことにより両方の基板に機械的歪みをもたらす、という欠点を除去する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus, a cradle for the imaging apparatus, an imaging system, and a defect detecting method for shielding light of an imaging element with a simple operation so as to easily detect and correct the pixel defect of the imaging element even in the case of the imaging apparatus mounted with a camera mechanism without a mechanical shutter.例文帳に追加

メカニカルシャッターの無いカメラ機構を搭載した撮像装置であっても、簡単な操作により撮像素子を遮光して撮像素子の画素欠陥を容易に検出でき、補正を行うことができる。 - 特許庁

To provide a chemical mechanical polishing pad capable of making compatible both the improvement of the flatness of a surface to be polished and the reduction of a polishing defect (scratch) in CMP, and a chemical mechanical polishing method using the pad.例文帳に追加

ＣＭＰにおける被研磨面の平坦性の向上と研磨欠陥（スクラッチ）の低減とを両立させることができる化学機械研磨パッド、および該化学機械研磨パッドを用いた化学機械研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology which enables an electro-mechanical conversion device such as a two-dimensional capacitive electro-mechanical conversion device having excellent sensitivity in a desired frequency band to be manufactured with no defect or with high yield.例文帳に追加

所望の周波数帯域で良好な感度を有する二次元容量型電気機械変換装置などの電気機械変換装置を無欠陥ないし歩留まり良く作製することを可能とする技術を提供する。 - 特許庁

A method for controlling the flow rate of slurry and reducing defect density in the chemical mechanical polishing system (100) of a semiconductor wafer is provided.例文帳に追加

半導体ウエハの化学的機械的研磨を行う研磨システム（１００）においてスラリ流量を制御し欠陥密度を低減させる方法である。 - 特許庁