metal forming analysisとは 意味・読み方・使い方

To provide a system and a method of predicting sheet metal forming failure using numerical simulations e.g., finite element analysis.例文帳に追加

数値的シミュレーション（例えば有限要素解析法）を用いて、シートメタル成形不具合を予測するシステムおよび方法を開示する。 - 特許庁

The method manufactures part of the electrochemical analysis inspection strip and includes a step for forming a metal substrate having the upper surface, on the surface of an electrical insulating substrate.例文帳に追加

電気化学式検査ストリップの一部を製造するための方法であって、電気絶縁基板の表面に、上面を有する金属基板を形成するステップを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a semiconductor substrate for analysis that can prevent the segregation of a metal element, can accurately and uniformly connect the metal element with a specific density onto a surface, and can improve the control property of the density of the metal element.例文帳に追加

金属元素の偏析を防止することができ、高い精度で所定密度の金属元素を表面に均一に結合させることができ、金属元素の密度の制御性を向上させることができる分析用半導体基板の形成方法を提供する。 - 特許庁

A method for evaluation of the metal contamination in the semiconductor substrate includes a step of forming a roughened area on one surface out of both sides of the semiconductor substrate, a step of heating the semiconductor substrate after forming the roughened area on one surface and a step for analysis of a metal component in a solution after scanning the roughened area with the solution.例文帳に追加

半導体基板の表裏面の一方に粗面化領域を形成すること、上記粗面化領域形成後の半導体基板を加熱処理すること、および上記粗面化領域上に溶液を走査させた後、該溶液中の金属成分を分析すること、を含む半導体基板の金属汚染評価方法。 - 特許庁

In a method for producing a polyimide film comprising forming a polyimide layer on a metal foil having a coating layer and separating the metal foil from the polyimide layer, the coating layer is formed from an organic silane compound such as 3-glycidoxpropyl trimethoxy silane, and an amount of silicone in the coating layer is 20 to 500 mg/m^2 measured by a wavelength-dispersion type fluorescent X ray analysis device.例文帳に追加

被膜層を設けた金属箔上にポリイミド層を形成した後、前記金属箔とポリイミド層とを分離してポリイミドフィルムを製造する方法において、前記被膜層が３-グリシドキシプロピルトリメトキシシランのような有機シラン化合物により形成されたものであり、前記被膜層におけるケイ素量が、波長分散型蛍光X線分析装置で測定したケイ素量として２０〜５００ｍｇ/ｍ^2の範囲であることを特徴する。 - 特許庁