micro scratchとは 意味・読み方・使い方

To provide the formation method of an STI that prevents a divot from being formed at a wet etching stage even if a micro scratch is generated on the surface of a buried insulating film by CMP.例文帳に追加

ＣＭＰにより埋め込み絶縁膜の表面にマイクロ・スクラッチが発生しても、ウェット・エッチの段階でディボットが形成されないＳＴＩの形成方法を提供する。 - 特許庁

COMPOSITION CONTAINING HIGHLY COMPOUNDABLE PASTY ORGANOSILICON NANO- AND/OR MICRO-HYBRID CAPSULE FOR SCRATCH-RESISTANT AND/OR ABRASION-RESISTANT COATING, AND ITS PRODUCTION METHOD AND USE例文帳に追加

耐引掻き性および／または耐摩性被覆のための高充填性ペースト状の珪素有機ナノおよび／またはミクロハイブリッドカプセルを含有する組成物、その製造方法および使用 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic recording medium which improves the adhesion ratio of lubricant to a carbon protection layer and does not cause a micro scratch and transfer of the lubricant to a magnetic head.例文帳に追加

カーボン保護層に対する潤滑剤の付着率を向上させ、マイクロスクラッチや磁気ヘッドへの潤滑剤の移着が生じない、磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hardened resin layer which has an increased pencil hardness from 4H to 8H being close to the hardness of glass and an improved scratch resistance by adding micro particles and nano particles into the resin layer.例文帳に追加

樹脂層内にマイクロ粒子及びナノ粒子を添加することにより、硬化樹脂層の鉛筆硬度を４Ｈからガラスに近い８Ｈにまで高め、耐擦傷性を向上させる硬化樹脂層を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal display element, with which generation of a pit originating from a pit source 14 such as a micro scratch is suppressed in chemical etching of surfaces 11a, 12a of glass substrates 11, 12.例文帳に追加

ガラス基板１１，１２の表面１１ａ，１２ａをケミカルエッチングする際、微少な傷などのピット起点１４を起点としたピットの発生を抑制できる液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The reflection sheet with the scratch preventing function for the backlight of the LCD device is manufactured by fixing a number of plastics micro beads on a surface, in contact with the light transmission plate, of a reflection film for the reflection sheet for the backlight of the LCD device.例文帳に追加

液晶表示装置バックライト用反射シート用反射フィルムの導光板と接する表面上に多数のプラスチック小ビーズを固着させて、液晶表示装置バックライト用傷防止機能付き反射シートを製造する。 - 特許庁

To prevent generation of a micro scratch on a polished object resulting from chipping of abrasive grains by reducing dispersion in the projection height and contact surface of the abrasive grains, in a dresser for dressing abrasive cloth used in surface finishing of a semiconductor wafer and the like by CMP machining.例文帳に追加

ＣＭＰ加工による半導体ウエハなどの表面仕上げに用いる研磨布をドレッシングするためのドレッサにおいて、砥粒の突出高さおよび接触面のばらつきを低減して、砥粒の欠けに起因する被研磨物のマイクロスクラッチの発生を防止する。 - 特許庁

To provide a combined evaluation system for a surface, having a comparatively simple device structure, inexpensive, and capable of simultaneously measure a corpuscle of a nanometer order, a scratch, and micro-roughness of sub-nanometer order on an ultra-precisely processed surface such as a Si wafer, by a light scattering method.例文帳に追加

光散乱法によってＳｉウエハ等の超精密加工面のナノメータオーダの微粒子、スクラッチ、サブナノメータオーダのマイクロラフネスを同時に短時間で測定でき、装置構造も比較的簡単で安価である光散乱法による表面の複合評価システムを提供する。 - 特許庁