oxygen thermal donorとは 意味・読み方・使い方

Then, the generation of the oxygen thermal donor is suppressed by low oxygenation.例文帳に追加

低酸素化により、酸素サーマルドナーの発生が抑制される。 - 特許庁

Through this thermal treatment step, an oxygen donor is generated at the specific region, and based on the quantity of the oxygen donor generated, a minute conductive property region is created inside the semiconductor substrate.例文帳に追加

この加熱処理する工程によって局所領域に酸素ドナーを発生させ、この酸素ドナーの発生量に基づいて半導体基板内に微小な導電特性領域を作成することを特徴としている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a high-resistance SIMOX (separation by implanted oxygen) wafer, for reducing oxygen dispersed inside a wafer by heat treatment in a high-temperature and oxidizing atmosphere and preventing the generation of thermal donor.例文帳に追加

高温かつ酸化性の雰囲気での熱処理によりウェーハに内方拡散した酸素を低減でき、サーマルドナーの発生を抑制できる高抵抗ＳＩＭＯＸウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To manufacture a high resistance silicon wafer whose gettering performance and economical efficiency are excellent, capable of effectively suppressing the generation of an oxygen thermal donor by thermal treatment for circuit formation performed at a device maker side.例文帳に追加

ゲッタリング能及び経済性に優れ、しかもデバイスメーカーの側で実施される回路形成用熱処理での酸素サーマルドナーの発生を効果的に抑制できる高抵抗シリコンウエーハを製造する。 - 特許庁

To manufacture a high-resistance silicon wafer which is excellent in a gettering ability, can effectively suppress the generation of an oxygen thermal donor and can avoid a change in resistance due to argon annealing and hydrogen annealing for achieving COP-free state.例文帳に追加

ゲッタリング能に優れ、酸素サーマルドナーの発生を効果的に抑制でき、しかもＣＯＰフリー化のためのアルゴンアニールや水素アニールに伴う抵抗変化を回避できる高抵抗シリコンウエーハを製造する。 - 特許庁

To manufacture a high resistor silicon wafer excellent in gettering ability, mechanical strength and economical efficiency while effectively suppressing the occurrence of oxygen thermal donor in heat treatment for forming a circuit, which is carried out at a device maker side.例文帳に追加

ゲッタリング能、機械的強度及び経済性に優れ、しかもデバイスメーカーの側で実施される回路形成用熱処理での酸素サーマルドナーの発生を効果的に抑制できる高抵抗シリコンウエーハを製造する。 - 特許庁