paddle developmentとは 意味・読み方・使い方

An amount of developer is varied by an auger 43a and a paddle 44 so that the amount of developer in the detecting area of an ATC sensor 8 provided for a development unit 4 periodically varies.例文帳に追加

現像器４に設けられたＡＴＣセンサ８の検出領域内の現像剤の量が周期的に増減するように、現像剤をオーガー４３ａ及びパドル４４により変動させる。 - 特許庁

To provide a pattern formation method and a pattern formation device that form a pattern of an excellent resist film without an impact (shock) to a resist by a droplet of a developer like spray development or pattern collapse caused owing to friction against the developer when a developer applied onto a substrate is shaken off like paddle development since the resist film is developed by generating mist of a processing liquid during development.例文帳に追加

現像時に、処理液をミスト状に発生させてレジスト膜の現像を行うために、スプレー現像のような現像液の液滴によるレジストへのインパクト（衝撃）や、パドル現像のような基板に盛った現像液を振り切る際の現像液との摩擦によるパターン倒壊がなく、良好なレジスト膜のパターンを形成するパターン形成方法及びパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser light, high sensitivity and high resolution, and high affinity with an alkali and giving a pattern with a preferable pattern profile and preferable dry etching durability and adhesion property by a paddle development system.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー光に対する透明性が高く、高感度で高解像度、アルカリに対して高い親和性、パドル現像によりパターン形状、耐ドライエッチング性、密着性の良好なパターンが得られるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a great affinity for an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In the paddle development process of a rectangular substrate, a plurality of developer flowing-out tubes are provided, the plurality of developer flowing-out tubes are displaced so as to scan sharing a rectangular substrate surface equally and the time difference necessary for placing a developer on the substrate surface is reduced as much as possible.例文帳に追加

長方形の基板のパドル現像工程において、複数の現像液流出管を設け、該複数の現像液流出管が長方形の基板表面を均等に分担して走査するように移動させ、基板表面に現像液を載置するのに要する時間差を極力少なくする。 - 特許庁

In the toner concentration detector, a magnetic permeability sensor 20 and an auxiliary magnetic permeability sensor 22 are arranged around a developer carrying means 14 for carrying the developer by axially rotating a developer carrying member 14 provided with a helical blade part and a paddle part on a shaft part inside the housing 18 of the development apparatus 10.例文帳に追加

トナー濃度検知装置には、透磁率センサ２０と補助透磁率センサ２２とが、軸部に螺旋羽部とパドル部とを備える現像剤搬送部材１４aを現像装置１０のハウジング１８内で軸回転させて現像剤を搬送する現像剤搬送手段１４の周囲に配置される。 - 特許庁

To provide an acrylate or a methacrylate copolymer suitable for use as a resin component of a chemically amplified photoresist composition having high transparency to ArF excimer laser, exhibiting excellent sensitivity, a resist pattern shape, dry etching resistance and adhesion, having a high affinity to an alkali and capable of giving a good resist pattern by paddle development, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、かつ優れた感度、レジストパターン形状、耐ドライエッチング性及び密着性を示すとともに、アルカリに対する親和性が高く、パドル現像により良好なレジストパターンを与えうる化学増幅型ホトレジスト組成物の樹脂成分として好適に用いうるアクリル酸若しくはメタクリル酸エステル共重合体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁