photo masksとは 意味・読み方・使い方

A member 20 to be processed is provided with: a substrate 1; metallic masks 5A, 5B located on the substrate 1 and formed with a first opening 6; and a photo resist film 7A for coating the metallic masks 5A, 5B and the first opening 6.例文帳に追加

被処理部材２０は、基板１、基板１上に設けられており、第一の開口部６を形成している金属マスク５Ａ、５Ｂ、および金属マスク５Ａ、５Ｂと第一の開口部６とを被覆するフォトレジスト膜７Ａを備えている。 - 特許庁

To provide a supply control system, or the like for appropriately controlling the supply of lots and masks to a photo device.例文帳に追加

フォト装置へのロットとマスクの供給を適切に制御することが可能な供給制御システム等を提供すること。 - 特許庁

With such a configuration, the number of photo masks used in the photolithography technique can be made five.例文帳に追加

このような構成とすることで、フォトリソグラフィー技術で使用するフォトマスクの数を５枚とすることができる。 - 特許庁

The lower photo resist 6 is developed after a repair processing and the rib formation member layer is selectively removed by using the remaining two layers of upper and lower photo resist patterns 62, 64, 72 as resist masks for pattern formation.例文帳に追加

リペア処理後に下側フォトレジスト６を現像し、残存する上下２層のフォトレジストパターン６２，６４，７２をパターン形成用レジストマスクとしてリブ形成部材層を選択除去する。 - 特許庁

The first thick photoresist layer 123A and the first thin photoresist layer 123B are used as a mask to etch the semiconductor layer 111, whereby the number of photo masks for use is reduced.例文帳に追加

次に第１厚フォトレジスト層１２３Ａと、第１薄フォトレジスト層１２３Ｂとをマスクとして、半導体層１１１をエッチングすることで、フォトマスクの使用枚数を削減する。 - 特許庁

Then, a resist mask 8 is formed on the conductive protection film 7 by a photo-resist method, and ions are doped on the conductive protection film 7 and the upper part electrode 6 through an opening part between the resist masks 8.例文帳に追加

そして、フォトレジスト法によりレジストマスク８を導電性保護膜７上に形成し、レジストマスク８間の開口部を通じて導電性保護膜７及び上部電極６にイオンをドープする。 - 特許庁

To provide an antistatic resin-made container suitable for storing a precision product or a semi-product thereof requiring high antistatic characteristic with very small mass production such as photo masks, and a kit for manufacturing the container.例文帳に追加

フォトマスク等の極めて少量生産であるが高い帯電防止特性を要求する精密製品あるいはその半製品を収容するのに適した制電性樹脂容器およびその作製用キットを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a matrix board for a liquid crystal with the necessary number of photo masks reduced, and to provide a matrix board for a liquid crystal.例文帳に追加

フォトマスクの使用枚数を削減して製造することができる液晶用マトリクス基板の製造方法および液晶用マトリクス基板を提供する。 - 特許庁