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pl 法の英語
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英訳・英語 Product Liability Law
「pl 法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
Corporate risk rose due to the establishment of PL (Product Liability) law.例文帳に追加
PL法の制定により、企業リスクが高まった。 - Weblio英語基本例文集
After specifying the coronal image data CI_h-CI_m, a segmentation method or the like is applied, and the candidate points PL_h-PL_m of the lower end of the liver are determined for each of the coronal image data CI_h-CI_m.例文帳に追加
コロナル画像データCI_h〜CI_mを特定したら、セグメンテーション法などを適用して、コロナル画像データCI_h〜CI_mごとに、肝臓の下端の候補点PL_h〜PL_mを決定する。 - 特許庁
The ink jet recording method comprises printing to a coated paper by an ink jet ink comprising a non-volatile component of at least 10 mass% and less than 50 mass% and having a droplet volume of at least 0.1 pL and not more than 0.5 pL.例文帳に追加
不揮発成分が10質量%以上、50質量%未満であるインクジェットインクを、液滴量として0.1pL以上、0.5pL以下で印刷用塗工紙に印字することを特徴とするインクジェット記録方法。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a nitride semiconductor light emitting element capable of stably obtaining high PL emission intensity.例文帳に追加
高いPL発光強度を安定して得ることが可能な窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a production method of surface-emitting semiconductor laser for correctly finding out the PL spectrum of an active layer of the surface-emitting semiconductor laser.例文帳に追加
面発光半導体レーザの活性層のPLスペクトルを正確に知ることができる面発光半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a group III-V compound semiconductor substrate, capable of improving the PL strength of the group III-V compound semiconductor substrate.例文帳に追加
III−V族化合物半導体基板のPL強度を向上できるIII−V族化合物半導体基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
Lastly, the non-aqueous ink is discharged on the recording sheet in quantity V_d(pl/m^2) satisfying the condition of formula (V_d≤V_I) by the inkjet method.例文帳に追加
最後に、非水系インクを、数式(V_d≦V_I)の条件を満たす量V_d(pl/m^2)で、インクジェット法により前記記録用紙に吐出する。 - 特許庁
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「pl 法」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 48件
To determine an objective criteria in covering expenses incurred for the exchange or repair of an article to be borne by a manufacturer in accordance with a PL(Product Liability) law by insurance.例文帳に追加
PL法で製造者が負担する物品の交換や修理等で発生した費用を保険で補填する場合の客観的な基準を決める。 - 特許庁
Then the protective film PL is left only in a hollow H1 in, for example, a CMP(chemical-mechanical polishing) method, and with it as a cover, the wiring film 7 is etched isotropically.例文帳に追加
その後、例えばCMP法により空隙H1にのみ保護膜PLを残し、それをカバーとして配線膜7を等方性エッチングする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a resin molding in which the molding having an undercut can be inexpensively molded without forming a PL.例文帳に追加
アンダーカットのある樹脂成形品を、PLが形成されず且つ低コストで成形できる樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method for producing the aromatic polycarbonate comprising a diphenyl carbonate production step, a bisphenol A production step, and an aromatic polycarbonate production step, the PL distillation residue resulting from the PL distillation step is sent to a DPC distillation step.例文帳に追加
ジフェニルカーボネート製造工程、ビスフェノールA製造工程、芳香族ポリカーボネート製造工程を含む、芳香族ポリカーボネートの製造方法において、PL蒸留工程で生じるPL蒸留残渣を、DPC蒸留工程に送ることを特徴とする。 - 特許庁
An approximated straight line AL is found from the data on the displaced state of the designed surface by a least-squares method, perpendicular lines PL are drawn from respective measuring points on the displaced state of the rear face to the straight line AL, and the lengths of the perpendicular lines PL are regarded as the thicknesses of the skin.例文帳に追加
意匠面の変位状態のデータから最小二乗法により近似直線ALを求め、その近似直線ALに対して裏面の変位状態の各計測点から垂線PLを引き、その垂線PLの長さをもって表皮の厚さとする。 - 特許庁
To maintain the production efficiency of a PC as a whole by limiting the water content of byproduct PL produced in the PC production process as a method for dealing with byproduct phenol to maintain the production efficiency of a BPA production process and DPC production process where the byproduct PL is returned.例文帳に追加
副生フェノールの対処法として、PC製造工程において生じる副生PLの含水率を所定範囲内に限定することにより、送られるBPA製造工程及びDPC製造工程での製造効率を保持し、全体として、PCの製造効率を保持することを目的とする。 - 特許庁
In this method, a low limit position PL of the piston 18, below which the cylinder wall 26 will get wet by the fuel jet from the injector 20, is found, an actual position of the piston 18 with respect to the low limit position PL is specified, and a fuel injection parameter is regulated in compliance with the actual position of the piston 18 to the low limit position PL.例文帳に追加
本発明によれば、本方法は、下限位置PLよりも下方のシリンダの壁26がインジェクタ20からの燃料ジェットで濡れるであろうピストン18の下限位置PLを求めることと、このピストン18の実際の位置を求めることと、下限位置PLに対するピストン18のこの実際の位置を特定することと、下限位置PLに対するピストン18の実際の位置に応じて燃料噴射パラメータを調節することとからなる。 - 特許庁
Furthermore, a unit lattice being a minute three-dimensional area is set around an attention focused position on the standard plane PL, and a finite difference method is substituted for a differential operation about the attention focused position by using a plurality of original data sets in the unit lattice on the standard plane PL, thereby obtaining a component of the velocity gradient tensor at the attention focused position.例文帳に追加
さらに、基準平面PLの上の着目位置の周囲に3次元の微小領域である単位格子を設定し、単位格子内における基準平面PLの上の複数個の原データを用いて着目位置に関する微分演算を有限差分法で代用することにより着目位置の速度勾配テンソルの成分を求める。 - 特許庁
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