plasma systemsとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma display device which can be used for a plurality of systems wherein address electrodes are led out of a plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルからアドレス電極を引き出す複数の方式に使用することができるプラズマディスプレイ装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

MULTIPLE-ELECTRODE PLASMA PROCESSING SYSTEMS WITH SEALED PROCESS CHAMBERS AND INTERIOR-BUSSED ELECTRICAL CONNECTIONS WITH THE ELECTRODES例文帳に追加

密封型処理チャンバと電極への内部バスによる電気接続とを備えた多電極プラズマ処理システム - 特許庁

To provide one or more of plasma spraying systems with which plasma spraying guns from a high voltage and low current type to a low voltage and high current type can be operated.例文帳に追加

高電圧低電流タイプから低電圧高電流タイプにわたるプラズマ溶射ガンを作動させることができる１つ又はそれ以上のプラズマ溶射システムを提供すること。 - 特許庁

A dual-chamber plasma processing apparatus comprises two reaction spaces which are equipped with different gas inlet lines and different RF systems.例文帳に追加

デュアル反応チャンバプラズマ処理装置は、異なるガス流入ライン及び異なるRFシステムが取り付けられた２つの反応チャンバから成る。 - 特許庁

To provide plasma systems with magnetic filter devices to alter film deposition/etching characteristics by altering the effective magnetic field distribution.例文帳に追加

有効な磁場の分布を変えることによって膜の堆積／エッチング特性を変えるための磁気フィルタ装置を備えたプラズマ・システムを提供すること。 - 特許庁

The system (200) can save installation cost and operation cost since it is no need for a workplace to keep separate and incompatible plasma spraying systems.例文帳に追加

このようなシステム（２００）は、作業所が別個の互換性のないプラズマ溶射システムを維持する必要がないので、設備投資及び運用コストを低減することができる。 - 特許庁

To realize the driving method of an AC-type plasma display panel which enables image display of high operating stability in maintenance block driving, in which drive circuit systems are multi-divided.例文帳に追加

駆動回路系を多分割した維持ブロック駆動において、動作安定性の高い画像表示を可能とするＡＣ型プラズマディスプレイパネルの駆動方法を実現することを目的とする。 - 特許庁

In addition, by heating and controlling a plurality of systems of heaters independently, specific temperature distribution is given to a placed object to be treated, and the distribution of the plasma treatment of the object to be treated can be corrected.例文帳に追加

さらに、複数系統のヒータを独立に加熱制御することにより、載置される被処理物に所定の温度分布を与え、被処理物のプラズマ処理の分布を補正することができる。 - 特許庁