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polysilicon electrodeとは 意味・読み方・使い方
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「polysilicon electrode」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 579件
To eliminate residue of polysilicon when isolating an gate electrode.例文帳に追加
ゲート電極を分離する際のポリシリコン残りを無くす。 - 特許庁
The multilayered polysilicon electrode is formed through the following processes.例文帳に追加
多層ポリシリコン電極を下記工程で形成する。 - 特許庁
To produce a high precision integrated circuit capacitor using an electrode made of polysilicon and titanium nitride.例文帳に追加
高精度な集積回路キャパシタを作製する。 - 特許庁
The gate electrode wiring 11 is superposed on the polysilicon semiconductor layer 21 and the dummy polysilicon semiconductor layer 25.例文帳に追加
ゲート電極配線11をポリシリコン半導体層21およびダミーポリシリコン半導体層25に重ねる。 - 特許庁
The p+ doped polysilicon region 21a is a region for electrically isolating the polysilicon gate electrode 10 from the n+ doped polysilicon region 22.例文帳に追加
p^+ ドープドポリシリコン21aは、ポリシリコンゲート電極10とn^+ ドープドポリシリコン領域22とを電気的に分離するための領域である。 - 特許庁
The area of the polysilicon film 102, used as an vibrating electrode, is smaller than that of the polysilicon film 115 used as the fixed electrode.例文帳に追加
振動電極となるポリシリコン膜102の面積は、固定電極となるポリシリコン膜115の面積よりも小さい。 - 特許庁
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「polysilicon electrode」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 579件
A polysilicon electrode PS having sidewalls is formed on the insulating film.例文帳に追加
絶縁膜上に、側壁を有するポリシリコン電極PSが形成される。 - 特許庁
A polysilicon film that becomes a gate electrode 6 is formed on it.例文帳に追加
その上には、ゲート電極6となるポリシリコン膜を形成する。 - 特許庁
Subsequently, the polysilicon film 8 is patterned to form a gate electrode 8a.例文帳に追加
ポリシリコン膜8をパターニングしてゲート電極8aを形成する。 - 特許庁
On the gate electrode and substrate, a polysilicon layer is deposited.例文帳に追加
ゲート電極及び基板上にポリシリコン層が堆積される。 - 特許庁
A second insulating film is formed over the first polysilicon electrode.例文帳に追加
第1ポリシリコン電極を覆って第2絶縁膜を形成する。 - 特許庁
The sum of the distance L2 between the polysilicon gate electrode 31 and the outer periphery of the cell along the polysilicon gate electrode 31 and the distance L3 between the polysilicon gate electrode 32 and the outer periphery of the cell along the polysilicon gate electrode 32 is equivalent to the distance L1.例文帳に追加
ポリシリコンゲート電極31とポリシリコンゲート電極31に沿ったセルの外周との間の距離L2とポリシリコンゲート電極32とポリシリコンゲート電極32に沿ったセルの外周との間の距離L3との和は、距離L1に等しい。 - 特許庁
To prevent unintended full siliciding of a polysilicon gate electrode.例文帳に追加
ポリシリコンゲート電極の意図しないフルシリサイド化を防止する。 - 特許庁
The polysilicon spacer on the end of the gate electrode is removed to separate the polysilicon spacers into a source polysilicon spacer and a drain polysilicon spacer, thereby completing formation of a MOSFET.例文帳に追加
ゲート電極の端部上のスペーサーを除去してソースポリシリコンスペーサーとドレインポリシリコンスペーサーとに分離し、MOSFETを完成する。 - 特許庁
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